Berita

Silicon carbide membentuk kembali industri semikonduktor untuk aplikasi daya dan suhu tinggi, dengan sifat komprehensifnya, dari substrat epitaxial hingga pelapis pelindung hingga kendaraan listrik dan sistem energi terbarukan.

Kemurnian tinggi: Lapisan epitaksi silikon yang ditumbuhkan dengan deposisi uap kimia (CVD) memiliki kemurnian yang sangat tinggi, kerataan permukaan yang lebih baik, dan kepadatan cacat yang lebih rendah dibandingkan wafer tradisional.

Solid silicon carbide (SIC) telah menjadi salah satu bahan utama dalam manufaktur semikonduktor karena sifat fisiknya yang unik. Berikut ini adalah analisis keunggulan dan nilai praktisnya berdasarkan sifat fisiknya dan aplikasi spesifiknya dalam peralatan semikonduktor (seperti pembawa wafer, kepala shower, cincin fokus etsa, dll.).