Silikon Nitrida

VeTek Semiconductor berfokus pada pembuatan Silicon Nitride dan memiliki tim penelitian dan pengembangan yang terdiri dari para ahli senior dan talenta teknis terbaik. Keramik silikon nitrida memiliki keunggulan kekerasan, ketahanan panas, ketahanan aus dan ketahanan korosi dari bahan keramik umum, dan memiliki keunggulan ketahanan guncangan termal yang baik, ketahanan mulur suhu tinggi, pelumasan mandiri yang baik, dan stabilitas kimia yang baik, dan banyak digunakan. digunakan dalam bidang energi baru, industri kimia, ruang angkasa dan semikonduktor.

Bahan Silikon Nitrida dari VeTek Semiconductor memiliki keunggulan sebagai berikut:

1. Stabilitas kimia yang sangat baik

Keramik silikon nitrida memiliki stabilitas kimia yang sangat baik dan tahan terhadap berbagai asam kuat, basa, dan gas korosif. Dalam proses pembuatan semikonduktor seringkali harus berurusan dengan bahan kimia korosif, keramik silikon nitrida dapat memberikan jaminan kinerja stabil jangka panjang.

2. Sifat mekanik yang sangat baik

Keramik silikon nitrida memiliki kekerasan tinggi, kekuatan tekan dan ketahanan aus yang sangat baik, mampu menahan tekanan mekanis dan keausan permukaan, tidak mudah mengalami deformasi atau pecah. Sifat mekanik ini membuatnya sangat cocok sebagai material bagian struktural dan proses pada peralatan semikonduktor.

3. Stabilitas suhu tinggi

Keramik silikon nitrida dapat menjaga stabilitas di lingkungan bersuhu tinggi, tidak mudah melunak atau meleleh, serta tahan terhadap pemrosesan dan penanganan suhu tinggi dalam proses pembuatan semikonduktor. Hal ini memungkinkannya untuk digunakan dalam pembuatan komponen utama peralatan proses suhu tinggi, seperti gripper, komponen ruang reaksi, dan sebagainya.

4. Sifat isolasi yang sangat baik

Sifat isolasi sangat penting dalam pembuatan perangkat semikonduktor. Keramik silikon nitrida memiliki sifat isolasi yang baik, yang secara efektif dapat mengisolasi dan melindungi komponen sirkuit dari kebocoran arus atau interferensi elektromagnetik, membantu meningkatkan stabilitas dan keandalan perangkat.

5. Konduktivitas termal dan konduktivitas termal

Keramik silikon nitrida memiliki konduktivitas termal yang tinggi, dapat secara efektif menghantarkan dan menghilangkan panas yang dihasilkan oleh perangkat, membantu menjaga stabilitas suhu perangkat dalam proses pengoperasian. Hal ini penting untuk pengoperasian perangkat semikonduktor berkinerja tinggi.

Penerapan material Silikon Nitrida VeTek Semiconductor di industri tenaga surya dan semikonduktor terutama meliputi:

1. Chuck elektrostatis dan komponen ruang etsa

Keramik silikon nitrida sering digunakan sebagai bahan untuk chuck elektrostatik dan komponen ruang etsa dalam pembuatan semikonduktor karena stabilitas kimianya yang sangat baik dan ketahanan suhu tinggi. Chuck elektrostatis digunakan untuk memperbaiki dan menstabilkan wafer atau substrat, sedangkan komponen ruang etsa digunakan untuk menahan gas korosif dan lingkungan bersuhu tinggi.

2. pelat distribusi gas dan reflektor

Keramik silikon nitrida juga digunakan dalam pembuatan peralatan semikonduktor pada pelat distribusi gas dan reflektor. Pelat distribusi gas digunakan untuk mendistribusikan gas reaktif atau pelindung secara merata ke dalam ruang reaksi, sedangkan reflektor digunakan untuk mengoptimalkan distribusi dan pantulan cahaya di dalam ruang reaksi untuk meningkatkan efisiensi dan keseragaman reaksi.

3. Pemegang dan komponen termal

Keramik silikon nitrida sering digunakan sebagai penahan dan komponen manajemen termal pada peralatan manufaktur semikonduktor. Komponen-komponen ini harus memiliki kekuatan mekanik, ketahanan aus, dan konduktivitas termal yang baik untuk memastikan pengoperasian peralatan yang stabil dan akurasi pemrosesan perangkat.

4. Bantalan Pemoles Mekanis Kimia (CMP).

Keramik Silicon Nitride banyak digunakan sebagai material bantalan pada proses Chemical Mechanical Polishing (CMP). Ini memiliki kerataan dan ketahanan aus yang sangat baik, dan dapat memberikan dukungan yang stabil selama proses pemolesan untuk memastikan kerataan dan presisi permukaan wafer semikonduktor.