Produk

Lengan robot Silicon Carbide (SIC) kami dirancang untuk penanganan wafer berkinerja tinggi di manufaktur semikonduktor canggih. Terbuat dari silikon karbida dengan kemurnian tinggi, lengan robot ini menawarkan resistensi luar biasa terhadap suhu tinggi, korosi plasma, dan serangan kimia, memastikan operasi yang andal di lingkungan kamar bersih yang menuntut. Kekuatan mekanik dan stabilitas dimensi yang luar biasa memungkinkan penanganan wafer yang tepat sambil meminimalkan risiko kontaminasi, menjadikannya pilihan yang ideal untuk MOCVD, epitaxy, implantasi ion, dan aplikasi penanganan wafer kritis lainnya. Kami menyambut pertanyaan Anda.

Veteksemicon berspesialisasi dalam menyediakan produk perahu wafer kuarsa khusus untuk industri semikonduktor. Lini produk kami meliputi perahu kaca kuarsa yang menyatu semikonduktor, kapal difusi kuarsa, dan kapal anil kuarsa yang disesuaikan, banyak digunakan dalam proses presisi tinggi seperti difusi, oksidasi, dan CVD. Veteksemicon bersikeras untuk menyediakan layanan komprehensif yang disesuaikan dari produk dan teknologi. Menantikan konsultasi lebih lanjut Anda.

Perahu wafer veteksemicon sic banyak digunakan dalam proses suhu tinggi kritis dalam manufaktur semikonduktor, berfungsi sebagai pembawa yang andal untuk oksidasi, difusi, dan proses anil untuk sirkuit terintegrasi berbasis silikon. Mereka juga unggul di sektor semikonduktor generasi ketiga, sangat cocok untuk proses yang menuntut seperti pertumbuhan epitaxial (EPI) dan deposisi uap kimia logam-organik (MOCVD) untuk perangkat daya SIC dan GAN. Mereka juga mendukung fabrikasi suhu tinggi dari sel surya efisiensi tinggi di industri fotovoltaik. Menantikan konsultasi lebih lanjut Anda.

Kepala shower grafit yang dilapisi CVD SIC dari Veteksemicon adalah komponen kinerja tinggi yang dirancang khusus untuk proses uap kimia semikonduktor (CVD). Diproduksi dari grafit dengan kemurnian tinggi dan dilindungi dengan pelapis silikon karbida uap kimia (CVD), kepala shower ini memberikan daya tahan yang luar biasa, stabilitas termal, dan ketahanan terhadap gas proses korosif. Menantikan konsultasi lebih lanjut Anda.

Kepala shower kuarsa, juga dikenal sebagai pelat distribusi gas kuarsa, adalah komponen penting yang digunakan dalam proses deposisi film tipis semikonduktor seperti CVD (deposisi uap kimia), PECVD (CVD yang ditingkatkan plasma), dan ALD (deposisi lapisan atom). Terbuat dari kuarsa menyatu dengan kemurnian tinggi, komponen ini memastikan kontaminasi yang sangat rendah dan stabilitas termal yang sangat baik, memungkinkan pengiriman gas yang tepat dan pertumbuhan film yang seragam di permukaan wafer. Menantikan konsultasi lebih lanjut Anda.

Cincin panduan grafit berlapis TAC kami adalah komponen inti presisi untuk manufaktur wafer semikonduktor. Mereka menampilkan substrat grafit dengan kemurnian tinggi yang dilapisi dengan lapisan tantalum carbide (TAC) yang tahan aus dan kimia. Dirancang untuk proses yang menuntut seperti deposisi epitaxial dan etsa plasma, mereka memastikan keselarasan dan stabilitas wafer yang tepat, secara efektif mengontrol kontaminasi, dan secara signifikan memperpanjang umur komponen. Veteksemicon menawarkan layanan penyesuaian agar sesuai dengan persyaratan peralatan dan proses Anda dengan sempurna.