Lapisan Karbon Pirolitik

Pelapisan karbon pirolitik adalah lapisan tipis karbon pirolitik yang dilapisi pada permukaan grafit isostatik yang sangat murni menggunakan teknologi deposisi uap kimia (CVD). Ia memiliki kepadatan tinggi, kemurnian tinggi, dan sifat termal, listrik, magnet, dan mekanik anisotropik.

Fitur utama:

● Permukaannya padat dan bebas pori-pori.

● Kemurnian tinggi, kandungan pengotor total<20ppm, kedap udara baik.

● Ketahanan suhu tinggi, kekuatan meningkat seiring meningkatnya suhu penggunaan, mencapai nilai tertinggi pada 2750 ℃, sublimasi pada 3600 ℃.

● Modulus elastisitas rendah, konduktivitas termal tinggi, koefisien muai panas rendah, dan ketahanan guncangan termal sangat baik.

● Stabilitas kimia yang baik, tahan terhadap asam, alkali, garam, dan reagen organik, serta tidak berpengaruh pada logam cair, terak, dan media korosif lainnya. Ia tidak teroksidasi secara signifikan di atmosfer di bawah 400 ℃, dan laju oksidasi meningkat secara signifikan pada 800 ℃.

● Tanpa melepaskan gas apa pun pada suhu tinggi, ia dapat mempertahankan ruang hampa 10-7mmHg pada suhu sekitar 1800 ℃.

Aplikasi produk:

● Wadah peleburan untuk penguapan dalam industri semikonduktor

● Gerbang tabung elektronik berdaya tinggi.

● Sikat yang bersentuhan dengan pengatur tegangan.

● Monokromator grafit untuk difraksi sinar-X dan neutron.

● Berbagai bentuk substrat grafit dan lapisan tabung serapan atom.

Efek pelapisan karbon pirolitik di bawah mikroskop 500X, dengan permukaan utuh dan tertutup rapat.