Lapisan karbon pirolitik

Lapisan karbon pirolitik adalah lapisan tipis karbon pirolitik yang dilapisi pada permukaan grafit isostatik yang sangat murni menggunakan teknologi uap kimia (CVD). Ini memiliki kepadatan tinggi, kemurnian tinggi, dan sifat termal anisotropik, listrik, magnetik, dan mekanik.

Fitur Utama:

● Permukaannya padat dan bebas dari pori -pori.

● Kemurnian tinggi, kandungan pengotor total <20ppm, kedap udara yang baik.

● Resistensi suhu tinggi, kekuatan meningkat dengan meningkatnya suhu penggunaan, mencapai nilai tertinggi pada 2750 ℃, sublimasi pada 3600 ℃.

● Modulus elastis rendah, konduktivitas termal tinggi, koefisien ekspansi termal rendah, dan ketahanan guncangan termal yang sangat baik.

● Stabilitas kimia yang baik, tahan terhadap asam, alkali, garam, dan reagen organik, dan tidak berpengaruh pada logam cair, slag, dan media korosif lainnya. Itu tidak teroksidasi secara signifikan di atmosfer di bawah 400 ℃, dan laju oksidasi meningkat secara signifikan pada 800 ℃.

● Tanpa melepaskan gas apa pun pada suhu tinggi, ia dapat mempertahankan kekosongan 10-7mmHg di sekitar 1800 ℃.

Aplikasi Produk:

● Peleburan wadah untuk penguapan di industri semikonduktor

● Gerbang tabung elektronik daya tinggi.

● Sikat yang menghubungi regulator tegangan.

● Monokromator grafit untuk difraksi sinar-X dan neutron.

● Berbagai bentuk substrat grafit dan pelapisan tabung penyerapan atom.

Efek pelapisan karbon pirolitik di bawah mikroskop 500x, dengan permukaan utuh dan tertutup.