Proses RTA/RTP

VeTek Semiconductor menyediakan pembawa wafer Proses RTA/RTP, terbuat dari grafit dengan kemurnian tinggi dan lapisan SiC denganpengotor di bawah 5 ppm.

Tungku anil cepat adalah sejenis peralatan untuk perawatan anil material danProses RTA/RTP, dengan mengontrol proses pemanasan dan pendinginan material, dapat memperbaiki struktur kristal material, mengurangi tegangan internal, dan meningkatkan sifat mekanik dan fisik material. Salah satu komponen inti dalam ruang tungku fast annealing adalah pembawa wafer/penerima waferuntuk memuat wafer. Sebagai pemanas wafer di ruang proses, inipelat pembawamemainkan peran penting dalam pemanasan cepat dan perlakuan pemerataan suhu.

Silikon karbida, aluminium nitrida, dan silikon karbida grafit merupakan bahan yang tersedia untuk tungku anil cepat, dan pilihan utama di pasaran adalah grafit danlapisan silikon karbida sebagai bahan. 

Berikut ini adalahfitur dan kinerja luar biasapembawa wafer proses RTA RTP berlapis SiC Semikonduktor VeTek:

-Stabilitas Suhu Tinggi: Lapisan SiC menunjukkan stabilitas suhu tinggi yang luar biasa, memastikan integritas struktur dan kekuatan mekanik bahkan pada suhu ekstrem. Kemampuan ini membuatnya sangat cocok untuk proses perlakuan panas yang menuntut.

-Konduktivitas Termal Yang Sangat Baik: Lapisan pelapis SiC memiliki konduktivitas termal yang luar biasa, memungkinkan distribusi panas yang cepat dan seragam. Hal ini berarti pemrosesan panas lebih cepat, mengurangi waktu pemanasan secara signifikan, dan meningkatkan produktivitas secara keseluruhan. Dengan meningkatkan efisiensi perpindahan panas, hal ini berkontribusi pada efisiensi produksi yang lebih tinggi dan kualitas produk yang unggul.

-Kelambanan Kimia: Kelambanan kimiawi yang melekat pada silikon karbida memberikan ketahanan yang sangat baik terhadap korosi dari berbagai bahan kimia. Pembawa wafer silikon karbida berlapis karbon kami dapat beroperasi dengan andal di beragam lingkungan kimia tanpa mengkontaminasi atau merusak wafer.

-Kerataan Permukaan: Lapisan silikon karbida CVD memastikan permukaan yang sangat rata dan halus, menjamin kontak yang stabil dengan wafer selama pemrosesan termal. Hal ini menghilangkan munculnya cacat permukaan tambahan, memastikan hasil pemrosesan yang optimal.

-Ringan dan Kekuatan Tinggi: Pembawa wafer RTP berlapis SiC kami ringan namun memiliki kekuatan luar biasa. Karakteristik ini memfasilitasi bongkar muat wafer yang nyaman dan andal.

Cara menggunakan pembawa wafer Proses RTA RTP：

Penerima wafer & penutup penerima lapisan SiC VeTek Semiconductor

Penerima RTA RTP Pembawa wafer RTA RTP Baki RTP (untuk perlakuan pemanasan cepat RTA) Baki RTP (untuk perlakuan pemanasan cepat RTA) Penerima RTP Baki Dukungan Wafer RTP