Substrat Waferadalah wafer yang terbuat dari bahan kristal tunggal semikonduktor. Substrat dapat langsung masuk ke proses pembuatan wafer untuk menghasilkan perangkat semikonduktor, atau dapat diproses dengan proses epitaksi untuk menghasilkan wafer epitaksi.
Substrat Wafer, sebagai struktur pendukung dasar perangkat semikonduktor, secara langsung mempengaruhi kinerja dan stabilitas perangkat. Sebagai “fondasi” pembuatan perangkat semikonduktor, serangkaian proses manufaktur seperti pertumbuhan film tipis dan litografi perlu dilakukan pada substrat.
Ringkasan jenis media:
●Wafer silikon kristal tunggal: saat ini bahan substrat yang paling umum, banyak digunakan dalam pembuatan sirkuit terpadu (IC), mikroprosesor, memori, perangkat MEMS, perangkat daya, dll.;
●Substrat JADI: digunakan untuk sirkuit terpadu berkinerja tinggi dan berdaya rendah, seperti sirkuit analog dan digital frekuensi tinggi, perangkat RF, dan chip manajemen daya;
●Substrat semikonduktor majemuk: Substrat Gallium arsenide (GaAs): perangkat komunikasi gelombang mikro dan milimeter, dll. Substrat Gallium nitrida (GaN): digunakan untuk amplifier daya RF, HEMT, dll.Substrat silikon karbida (SiC): digunakan untuk kendaraan listrik, konverter daya, dan perangkat daya lainnya Substrat indium fosfida (InP): digunakan untuk laser, fotodetektor, dll.;
●Substrat safir: digunakan untuk pembuatan LED, RFIC (sirkuit terpadu frekuensi radio), dll.;
Vetek Semiconductor adalah pemasok Substrat SiC dan substrat SOI profesional di Cina. KitaSubstrat SiC tipe semi-isolasi 4HDanSubstrat SiC Tipe Semi Isolasi 4Hbanyak digunakan dalam komponen utama peralatan manufaktur semikonduktor.
Vetek Semiconductor berkomitmen untuk menyediakan produk Substrat Wafer yang canggih dan dapat disesuaikan serta solusi teknis dengan berbagai spesifikasi untuk industri semikonduktor. Kami dengan tulus berharap dapat menjadi pemasok Anda di China.
