CVD SIC COATING EPITAXY RUMN

Veteksemicon's CVD SIC Coating Epitaxy Ronsceptor adalah alat rekayasa presisi yang dirancang untuk pemrosesan wafer semikonduktor. Kerentanan epitaxy pelapisan sic ini memainkan peran penting dalam mempromosikan pertumbuhan film tipis, epilayer, dan pelapis lainnya, dan secara tepat mengontrol suhu dan sifat material. Selamat datang pertanyaan Anda lebih lanjut.

DasarSifat fisik pelapis CVD SIC:

CVD SIC COATING EPITAXY RENCEPTOR PRODUK PRODUK:

● Deposisi yang tepat: Kerentanan menggabungkan substrat grafit yang sangat termal dengan lapisan SIC untuk menyediakan platform dukungan yang stabil untuk substrat (seperti safir, sic atau gan). Konduktivitas termal yang tinggi (seperti SIC sekitar 120 W/M · K) dapat dengan cepat mentransfer panas dan memastikan distribusi suhu yang seragam pada permukaan substrat, sehingga mendorong pertumbuhan berkualitas tinggi dari lapisan epitaxial.

● Berkurangnya kontaminasi: Lapisan SIC yang disiapkan oleh proses CVD memiliki kemurnian yang sangat tinggi (kandungan pengotor <5 ppm) dan sangat tahan terhadap gas korosif (seperti CL₂, NH₃), menghindari kontaminasi lapisan epitaxial.

● Daya tahan: Kekerasan tinggi SIC (kekerasan MOHS 9.5) dan resistensi keausan mengurangi kehilangan mekanis basis selama penggunaan berulang dan cocok untuk proses produksi semikonduktor frekuensi tinggi.

Veteksemicon berkomitmen untuk menyediakan produk berkualitas tinggi dan harga yang kompetitif. Kami berharap untuk menjadi mitra jangka panjang Anda di China.

Itu semikonduktor Toko Produk: