Berita

Proses Taiko menipiskan wafer silikon menggunakan prinsip -prinsipnya, keunggulan teknis dan asal proses.

Penelitian Proses Epitaxial dan Homoepitaxial 8-inci

Artikel ini menganalisis sifat material wafer substrat semikonduktor seperti silikon, GaAs, SiC dan GaN

Artikel ini terutama menjelaskan teknologi epitaxial suhu rendah berbasis GAN, termasuk struktur kristal bahan berbasis GAN, 3. Persyaratan teknologi epitaxial dan solusi implementasi, keuntungan dari teknologi epitaxial suhu rendah berdasarkan prinsip PVD, dan prospek pengembangan teknologi epitaxial suhu rendah.

Artikel ini pertama kali memperkenalkan struktur molekuler dan sifat fisik TAC, dan berfokus pada perbedaan dan aplikasi tantalum carbide sintered dan CVD tantalum carbide, serta produk pelapis TAC populer Vetek Semiconductor.

Artikel ini memperkenalkan karakteristik produk pelapisan CVD TAC, proses mempersiapkan pelapisan CVD TAC menggunakan metode CVD, dan metode dasar untuk deteksi morfologi permukaan lapisan TAC CVD yang disiapkan.