Layanan Dukungan

VeTek Semiconductor memasok wafer dan substrat kristal tunggal Aluminium Nitrida (AlN) berkualitas tinggi untuk perangkat semikonduktor celah pita ultra lebar generasi berikutnya. Dengan celah pita ultra lebar sekitar 6,2 eV, konduktivitas termal yang luar biasa, isolasi listrik yang luar biasa, dan kisi yang sangat baik serta kecocokan ekspansi termal dengan GaN, wafer AlN ideal untuk perangkat RF berdaya tinggi, elektronika daya bertegangan tinggi, dan optoelektronik ultraviolet dalam (DUV).

Layanan Pembersihan Profesional VETEK untuk Suku Cadang Grafit Berlapis SiC CVD adalah layanan teknis khusus yang dirancang untuk susceptor peralatan Aixtron / Veeco MOCVD dan komponen grafit yang digunakan dalam proses epitaksi GaN / AlN / AlGaN. Proses pembersihan milik kami secara menyeluruh menghilangkan efek memori permukaan, memulihkan aliran gas yang stabil di dalam reaktor, dan secara ketat melindungi lapisan SiC CVD 100 µm dengan kehilangan ketebalan nol mutlak dan residu logam nol.

Seiring dengan meningkatnya permintaan akan transduser MEMS dengan sensitivitas tinggi dan daya rendah seiring dengan perluasan komunikasi 5G, perangkat medis presisi, dan perangkat pintar yang dapat dikenakan, wafer PZT pada Si/SOI kami memberikan solusi material yang penting. Memanfaatkan proses pengendapan film tipis yang canggih seperti Sol-gel atau sputtering, kami mencapai konsistensi luar biasa dan kinerja piezoelektrik yang unggul pada substrat silikon. Wafer ini berfungsi sebagai inti fundamental untuk konversi energi elektromekanis.

Pertumbuhan kristal silikon karbida adalah proses inti dalam pembuatan perangkat semikonduktor berkinerja tinggi. Stabilitas, presisi, dan kompatibilitas peralatan pertumbuhan kristal secara langsung menentukan kualitas dan hasil ingot silikon karbida. Berdasarkan karakteristik teknologi Pengangkutan Uap Fisik (PVT), Veteksemi telah mengembangkan tungku pemanas tahan untuk pertumbuhan kristal silikon karbida, memungkinkan pertumbuhan stabil kristal silikon karbida berukuran 6 inci, 8 inci, dan 12 inci dengan kompatibilitas penuh dengan sistem material konduktif, semi-isolasi, dan tipe-N. Melalui kontrol suhu, tekanan, dan daya yang presisi, produk ini secara efektif mengurangi cacat kristal seperti EPD (Etch Pit Density) dan BPD (Basal Plane Dislocation), sekaligus menampilkan konsumsi energi yang rendah dan desain yang ringkas untuk memenuhi standar tinggi produksi industri skala besar.

Bubur pemoles CMP (Chemical Mechanical Polishing Slurry) adalah material berkinerja tinggi yang digunakan dalam pembuatan semikonduktor dan pemrosesan material presisi. Fungsi intinya adalah untuk mencapai kerataan halus dan pemolesan permukaan material di bawah efek sinergis dari korosi kimia dan penggilingan mekanis untuk memenuhi persyaratan kerataan dan kualitas permukaan pada tingkat nano. Menantikan konsultasi Anda selanjutnya.

Sebagai produsen dan pemasok wafer SIC Cina terkemuka, Vetek Semiconductor CVD SIC Coating Dummy Wafer adalah alat khusus dalam manufaktur semikonduktor, terutama digunakan untuk tujuan pengujian wafer silikon dan proses pengujian wafer. Pertanyaan selanjutnya Anda dipersilakan.