Produk
Cincin Fokus Etsa SiC Padat
  • Cincin Fokus Etsa SiC PadatCincin Fokus Etsa SiC Padat
  • Cincin Fokus Etsa SiC PadatCincin Fokus Etsa SiC Padat
  • Cincin Fokus Etsa SiC PadatCincin Fokus Etsa SiC Padat

Cincin Fokus Etsa SiC Padat

Cincin pemfokusan etsa sic yang solid adalah salah satu komponen inti dari proses etsa wafer, yang berperan dalam memperbaiki wafer, memfokuskan plasma dan meningkatkan keseragaman etsa wafer. Sebagai produsen cincin fokus SIC terkemuka di Cina, Vetek Semiconductor memiliki teknologi canggih dan proses matang, dan memproduksi cincin pemfokusan etsa SIC yang solid yang sepenuhnya memenuhi kebutuhan pelanggan akhir sesuai dengan kebutuhan pelanggan. Kami menantikan pertanyaan Anda dan menjadi mitra jangka panjang satu sama lain.

VeTek Semiconductor telah membuat kemajuan besar dalam teknologi CVD Solid SiC dan kini mampu memproduksi Solid SiC Etching Focusing Ring dengan tingkat terdepan di dunia. Cincin Fokus Etsa SiC Padat Semikonduktor VeTek adalah produk bahan silikon karbida dengan kemurnian sangat tinggi yang dibuat melalui proses Deposisi Uap Kimia.

Cincin fokus etsa SiC padat digunakan dalam proses manufaktur semikonduktor, khususnya dalam sistem etsa plasma. Cincin fokus SiC adalah komponen penting yang membantu mencapai pengetsaan wafer silikon karbida (SiC) yang presisi dan terkontrol.


Selama proses etsa plasma, cincin fokus memainkan banyak peran adalah sebagai berikut:

● Memfokuskan plasma: Cincin pemfokusan etsa SIC yang solid membantu membentuk dan memusatkan plasma di sekitar wafer, memastikan bahwa proses etsa terjadi secara seragam dan efisien. Ini membantu membatasi plasma ke area yang diinginkan, mencegah etsa liar atau kerusakan pada daerah sekitarnya.

●  Melindungi Dinding Kamar: Fokus cincin bertindak sebagai penghalang antara plasma dan dinding ruang, mencegah kontak langsung dan potensi kerusakan. SIC sangat tahan terhadap erosi plasma dan memberikan perlindungan yang sangat baik untuk dinding ruang.

●  Tkontrol suhu: SIC Focus Ring membantu dalam mempertahankan distribusi suhu yang seragam di seluruh wafer selama proses etsa. Ini membantu menghilangkan panas dan mencegah gradien overheating atau termal lokal yang dapat mempengaruhi hasil etsa.


Solid SiC Etching Focusing Ring in Plasma Etching Equipment


Solid SIC dipilih untuk memfokuskan cincin karena stabilitas termal dan kimianya yang luar biasa, kekuatan mekanik yang tinggi, dan ketahanan terhadap erosi plasma. Sifat -sifat ini menjadikan SIC bahan yang cocok untuk kondisi yang keras dan menuntut di dalam sistem etsa plasma.


Perlu dicatat bahwa desain dan spesifikasi cincin pemfokusan dapat bervariasi tergantung pada sistem etsa plasma spesifik dan persyaratan proses. VeTek Semiconductor mengoptimalkan bentuk, dimensi, dan karakteristik permukaan cincin fokus untuk memastikan kinerja pengetsaan yang optimal dan umur panjang. SiC padat banyak digunakan untuk pembawa wafer, susceptor, wafer dummy, cincin pemandu, suku cadang untuk proses etsa, proses CVD, dll.


Parameter Produk Cincin Fokus Etsa SiC Solid


Sifat fisik sic padat
Kepadatan 3.21 gram/cm3
Resistivitas listrik 102 ohm/cm
Kekuatan lentur 590 MPa (6000kgf/cm2)
Modulus Young 450 IPK (6000kgf/mm2)
Kekerasan Vickers 26 IPK (2650kgf/mm2)
CTE(RT-1000℃) 4.0 X10-6/K
Konduktivitas Termal (RT) 250 W/mk


Toko Produksi Semikonduktor VeTek


Veteksemi Solid SiC Etching Focusing Ring shops


Tag Panas: Cincin Fokus Etsa SiC Padat
mengirimkan permintaan
Info kontak
Untuk pertanyaan tentang Lapisan Silikon Karbida, Lapisan Tantalum Karbida, Grafit Khusus atau daftar harga, silakan tinggalkan email Anda kepada kami dan kami akan menghubungi Anda dalam waktu 24 jam.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept