Produk
Tantalum carbide cover
  • Tantalum carbide coverTantalum carbide cover

Tantalum carbide cover

Vetek Semiconductor adalah produsen penutup dan inovator yang dilapisi Tantalum Carbide terkemuka di Cina. Kami telah berspesialisasi dalam lapisan TAC dan SIC selama bertahun -tahun. Produk kami memiliki ketahanan korosi, kekuatan tinggi. Kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di China. Berlumat untuk berkonsultasi kapan saja.

Temukan banyak pilihan penutup berlapis Tantalum carbide dari Cina di Vetek Semiconductor. Memberikan layanan purna jual profesional dan harga yang tepat, berharap untuk kerja sama. Penutup yang dilapisi Tantalum carbide yang dikembangkan oleh Vetek Semiconductor adalah aksesori yang dirancang khusus untuk sistem MOCVD Aixtron G10, yang bertujuan untuk mengoptimalkan efisiensi dan meningkatkan kualitas manufaktur semikonduktor. Ini dibuat dengan cermat menggunakan bahan berkualitas tinggi dan diproduksi dengan presisi tertinggi, memastikan kinerja yang luar biasa dan keandalan untuk proses pengendapan uap kimia logam-organik (MOCVD).


Dibangun dengan substrat grafit yang dilapisi dengan deposisi uap kimia (CVD) tantalum carbide (TAC), penutup yang dilapisi tantalum karbida menawarkan stabilitas termal yang luar biasa, kemurnian tinggi, dan ketahanan terhadap suhu tinggi. Kombinasi bahan yang unik ini memberikan solusi yang dapat diandalkan untuk kondisi operasional yang menuntut sistem MOCVD.


Penutup yang dilapisi Tantalum Carbide dapat disesuaikan untuk mengakomodasi berbagai ukuran wafer semikonduktor, membuatnya cocok untuk beragam persyaratan produksi. Konstruksi yang kuat secara khusus direkayasa untuk menahan lingkungan MOCVD yang menantang, memastikan kinerja yang tahan lama dan meminimalkan downtime dan biaya pemeliharaan yang terkait dengan operator wafer dan rekannya.


Dengan memasukkan penutup TAC ke dalam sistem MOCVD Aixtron G10, produsen semikonduktor dapat mencapai efisiensi yang lebih tinggi dan hasil yang lebih tinggi. Stabilitas termal yang luar biasa, kompatibilitas dengan ukuran wafer yang berbeda, dan kinerja disk planet yang andal menjadikannya alat yang sangat diperlukan untuk mengoptimalkan efisiensi produksi dan mencapai hasil yang luar biasa dalam proses MOCVD.



Parameter produk penutup yang dilapisi tantalum carbide

Sifat fisik pelapis TAC
Kepadatan 14.3 (G/cm³)
Emisivitas spesifik 0.3
Koefisien Ekspansi Termal 6.3 10-6/K
Kekerasan (HK) 2000 HK
Perlawanan 1 × 10-5Ohm*cm
Stabilitas termal <2500 ℃
Perubahan ukuran grafit -10 ~ -20um
Ketebalan lapisan ≥20um nilai khas (35um ± 10um)


Kinerja wafer setelah menggunakan komponen kami:

the Wafer performance after using our components


Semikonduktor dealer:

Tantalum Carbide Coated Cover shops


Tinjauan Umum Rantai Industri Epitaxy Chip Semikonduktor:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


Tag Panas: Tantalum carbide cover
mengirimkan permintaan
Info kontak
Untuk pertanyaan tentang Lapisan Silikon Karbida, Lapisan Tantalum Karbida, Grafit Khusus atau daftar harga, silakan tinggalkan email Anda kepada kami dan kami akan menghubungi Anda dalam waktu 24 jam.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept