Reseptor Aixtron MOCVD

Rekan yang diproduksi olehSemikonduktor Vetekterbuat dari substrat grafit dan bahan pelapis silikon karbida (SiC). Mengingat ketahanan aus yang lebih tinggi, ketahanan terhadap korosi, dan kekerasan material SiC yang sangat tinggi, material ini sangat cocok untuk digunakan di lingkungan proses yang keras. Oleh karena itu, Susceptors yang diproduksi oleh Vetek Semiconductor dapat langsung digunakan dalam proses MOCVD suhu tinggi tanpa perlakuan permukaan tambahan.

Kerentanan adalah komponen utama dalam manufaktur semikonduktor, terutama pada peralatan MOCVD untuk proses pengendapan film tipis. Peran utama dariPenerima Aixtron SiCdalam proses MOCVD adalah membawa wafer semikonduktor, memastikan deposisi film tipis yang seragam dan berkualitas tinggi dengan menyediakan distribusi panas dan lingkungan reaksi yang seragam, sehingga mencapai produksi film tipis berkualitas tinggi.

Pendukung Aixtron MOCVDbiasanya digunakan untuk mendukung dan memperbaiki basis wafer semikonduktor untuk memastikan stabilitas wafer selama proses pengendapan. Pada saat yang sama, lapisan permukaan kerentanan MOCVD Aixtron terbuat dari silikon karbida (sic), bahan konduktif yang sangat termal. Lapisan SIC memastikan suhu yang seragam pada permukaan wafer, dan pemanasan yang seragam sangat penting untuk mendapatkan film berkualitas tinggi.

ApalagiPendukung Aixtron MOCVDyang kami produksi memainkan peran lebih besar dalam mengendalikan aliran dan distribusi gas reaktif melalui desain material yang dioptimalkan. Hindari arus eddy dan gradien suhu untuk mencapai deposisi film yang seragam.

Lebih penting lagi, dalam proses MOCVD, bahan pelapis silikon karbida (sic) memiliki resistensi korosi, jadiSemikonduktor Vetek'SPendukung Aixtron MOCVDjuga dapat menahan suhu tinggi dan gas korosif.

Sifat fisik dasar dariPELAPISAN SIC:

Toko Perahu Wafer Semikonduktor VeTek:

Tinjauan umum rantai industri epitaksi chip semikonduktor: