Susceptor Dilapisi Tantalum Carbide(TaC) CVD

Fitur Utama

Aplikasi

Aplikasi yang umum meliputi:

• Pertumbuhan Epitaksi SiC

• Epitaksi GaN MOCVD

• Pertumbuhan Epitaksial AlN

• Manufaktur Semikonduktor Generasi Ketiga

• Elektronik Berkekuatan Tinggi

• Perangkat RF

• Produksi MikroLED

• Penelitian dan Sistem Produksi Percontohan

Peralatan yang Kompatibel

Platform yang kompatibel meliputi:

• Aixtron

• LPE

• Veeco

• AMEK

• NuFlare

• Reaktor CVD & MOCVD Kustom

Juga tersedia:

• Pembawa Wafer

• Penerima Planet

• Penerima Barel

• Rotasi Disk

• Bagian Bulan Setengah

• Pelat Penutup

• Rakitan Grafit

• Komponen Medan Termal Khusus

Spesifikasi Teknis

Pertanyaan yang Sering Diajukan

1. Apa yang dimaksud dengan Susceptor Berlapis CVD TaC?

Komponen grafit dengan kemurnian tinggi yang dilindungi oleh lapisan CVD TaC padat yang digunakan sebagai pembawa wafer selama pertumbuhan epitaksial.

2. Mengapa menggunakan coklat TaCting bukannya lapisan SiC?

TaC menawarkan ketahanan suhu yang lebih tinggi, stabilitas kimia yang unggul, dan masa pakai yang lebih lama.

3.Proses semikonduktor mana yang menggunakan TaC-creseptor oat?

Epitaksi SiC, GaN MOCVD, epitaksi AlN, dan proses pertumbuhan kristal suhu tinggi lainnya.

4. Bisakah VETEK memproduksi susceptor khusus?

Ya. Kami menyediakan desain khusus berdasarkan gambar pelanggan dan persyaratan proses.

5. Merek reaktor apa yang didukung?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare, dan sistem utama lainnya.