Deposisi Uap Fisik

Vetek Semiconductor adalah pabrikan China yang memasok bahan semikonduktor canggih seperti Proses Deposisi Uap FisikSIC yang dilapisi wadah, wadah karbon kaca,Pemanas grafit pelapis SiC, Evaporation Crucible Gun Evaporation Electron.

Prinsip Dasar Proses PVD

Proses deposisi uap fisik biasanya mencakup berbagai metode spesifik seperti penguapan, sputtering, dan pelapisan ion. Terlepas dari metode yang digunakan, prinsip dasar deposisi uap fisik adalah menguapkan bahan dari sumber melalui pemanasan suhu tinggi atau pemboman ion. Bahan yang diuapkan bergerak dalam bentuk atom atau molekul dalam lingkungan vakum atau tekanan rendah dan memadatkan menjadi film tipis di permukaan substrat. Proses ini terutama dicapai dengan cara fisik, sehingga menghindari pengaruh reaksi kimia pada kemurnian material.

Keunggulan teknologi Deposisi Uap Fisik

Kemurnian tinggi dan kepadatan tinggi: Film yang disimpan PVD biasanya memiliki kemurnian dan kepadatan yang tinggi, yang secara signifikan dapat meningkatkan kinerja lapisan, seperti ketahanan aus, ketahanan korosi dan kekerasan.

Adhesi film yang kuat: Proses PVD dapat membentuk film dengan daya rekat kuat pada substrat, memastikan film tidak mudah terkelupas saat digunakan, sehingga memperpanjang masa pakai produk.

Berbagai macam pemilihan material: Teknologi PVD dapat diterapkan pada berbagai bahan, termasuk logam, keramik, dan paduan, serta dapat menyiapkan berbagai pelapis fungsional, seperti pelapis konduktif, isolasi, tahan panas, dan anti-oksidasi.

Perlindungan dan Keberlanjutan Lingkungan: Dibandingkan dengan proses seperti deposisi uap kimia (CVD), proses Deposisi Uap Fisik (PVD) lebih ramah lingkungan, tidak menghasilkan gas berbahaya, dan mengurangi polusi terhadap lingkungan.

Penerapan teknologi PVD

Industri semikonduktor: Dalam pembuatan semikonduktor, Deposisi Uap Fisik sering digunakan dalam pembuatan elektroda film tipis, penghalang difusi, dan interkoneksi logam untuk memastikan bahwa komponen memiliki konduktivitas dan stabilitas yang baik.

Perangkat optik: Teknologi deposisi uap fisik banyak digunakan dalam pelapis optik, seperti pelapis anti-reflektif untuk cermin dan lensa, dan pembuatan filter optik untuk meningkatkan kinerja perangkat optik.