Chuck Elektrostatis Keramik Aluminium Nitrida (AlN).

1.Keuntungan

• Keramik AlN dengan kemurnian tinggi dengan konduktivitas termal hingga ~180 W/m·K untuk perpindahan panas yang efisien dan keseragaman suhu

• Isolasi listrik yang kuat dan resistivitas volume tinggi mendukung penjepitan yang stabil pada 1–3 kV (tersedia tegangan lebih tinggi)

• Bahan lapisan dielektrik khusus dan tata letak elektroda: Coulomb atau Johnsen–Rahbek (JR); tunggal atau multi-zona

• Performa penjepit dan pelepasan penjepit yang cepat, biasanya di bawah 0,1 detik

• Struktur mikro lesung permukaan hingga diameter ~300 μm, mengurangi area kontak hingga ~1%

• Kemampuan kerataan yang tinggi; kerataan global yang khas pada urutan 0,5–3 μm PV untuk platform kelas 300 mm

• Struktur mikro padat dengan penyerapan air mendekati nol dan ketahanan kimia yang baik untuk lingkungan proses

2.Aplikasi Khas

Chuck Elektrostatik Keramik Aluminium Nitrida digunakan dalam langkah-langkah proses yang memerlukan penyimpanan wafer yang aman dan perilaku termal yang terkontrol:

• Etsa plasma kering (ICP / RIE) dan proses ruang terkait

• CVD, PEALD, ALD termal, dan tahap deposisi film tipis lainnya

• Modul proses anil dan termal memerlukan suhu wafer yang seragam

• Tahap inspeksi, metrologi, dan presisi yang memerlukan penjepitan partikel rendah dan stabil

3.Kelas Bahan AlN – Sifat Khas

VeTek menawarkan beberapa tingkatan Aluminium Nitrida untuk menyeimbangkan konduktivitas termal, kekuatan mekanik, dan biaya untuk desain ESC:

Satuan: Konduktivitas termal dalam W/(m·K); kekuatan dielektrik dalam kV/mm; resistivitas volume dalam Ω·cm (25 °C); konstanta dielektrik pada 1 MHz. Nilai bersifat tipikal dan dapat bervariasi menurut proses dan geometri bagian.

4.Parameter Desain ESC yang Khas

5.Mengapa Choolihat Chuck Elektrostatis VeTek AlN?

VeTek Semiconductor mengintegrasikan keramik AlN canggih dengan manufaktur ESC presisi untuk pelanggan semikonduktor yang membutuhkan kinerja termal dan penjepitan yang andal:

• Berbagai tingkat AlN dengan konduktivitas termal dari ~90 hingga ~180 W/m·K untuk menyesuaikan anggaran termal proses

• Desain elektroda dan dielektrik yang fleksibel untuk perilaku penjepitan Coulomb atau JR

• Kontrol ketat terhadap kerataan, struktur mikro permukaan, dan kinerja insulasi listrik

• Dukungan siklus hidup penuh: desain, pembangunan baru, dan perbaikan multi-level

Untuk alat pengetsa, pengendapan, dan termal yang bergantung pada suhu wafer yang seragam dan penjepitan yang bersih dan berulang, Chuck Elektrostatis Keramik Aluminium Nitrida VeTek menyediakan platform keramik berkinerja tinggi yang didukung oleh dukungan teknik yang berfokus pada aplikasi.