Merasa kaku dengan kemurnian tinggi

Pertumbuhan epitaxial SiC adalah teknologi untuk menumbuhkan film tipis silikon karbida berkualitas tinggi di permukaan substrat. Proses ini sangat penting untuk pembuatan perangkat semikonduktor silikon karbida tinggi, seperti perangkat daya silikon karbida dan perangkat RF silikon karbida. Dalam proses ini, lingkungan pertumbuhan, termasuk suhu, aliran gas, tekanan dan parameter lainnya, perlu dikontrol secara ketat untuk memastikan pertumbuhan lapisan epitaxial silikon karbida berkualitas tinggi dengan sifat listrik yang baik. SIC COATIG BAGIAN GRAFITET HENGKAI ADALAH KOMPONEN Inti dari pertumbuhan epitaxial SIC, dan kemurnian tinggi yang kaku terutama memainkan peran pelestarian panas bagian -bagian grafit setengah coatig sic coatig.

Kain kempa kaku dengan kemurnian tinggi memiliki konduktivitas termal yang baik, yang dapat mendistribusikan panas sumber pemanas secara merata di sekitar bagian grafit SiC coatig Halfmoon dan memiliki efek pelestarian panas yang baik. Selama pertumbuhan epitaksi SiC, ia dapat menyerap panas dan melepaskannya secara perlahan untuk menghindari panas berlebih atau pendinginan berlebih, sehingga perbedaan suhu pada permukaan substrat silikon karbida dikontrol dalam kisaran yang sangat kecil, dan keseragaman suhu biasanya dapat mencapai ±1 - 2℃, yang sangat penting untuk menumbuhkan lapisan epitaksi silikon karbida dengan ketebalan seragam dan sifat listrik yang konsisten.

Beberapa gas korosif, seperti silan (SIH4) dan propana (C3H8), digunakan sebagai gas sumber reaksi dalam pertumbuhan epitaxial SIC. Felt yang kaku kemurnian tinggi memiliki toleransi yang baik terhadap gas kimia ini, dan dapat mempertahankan integritas strukturalnya di seluruh siklus pertumbuhan epitaxial (yang dapat berlangsung selama berjam -jam atau bahkan puluhan jam). Dan kemurnian kemurnian tinggi yang dirasakan kaku di atas 99,99%, dan tidak akan melepaskan zat yang dapat mencemari lapisan epitaxial ke dalam lingkungan reaksi, sehingga memastikan kemurnian tinggi lapisan epitaxial silikon karbida.

Kepadatan yang tepat dapat memastikan kekuatan mekanik dan konduktivitas termal dari kemurnian tinggi yang terasa kaku. Sambil memastikan konduktivitas termal, ia dapat meminimalkan gangguan faktor eksternal pada pertumbuhan epitaxial SIC.

Dibandingkan dengan bahan keramik tradisional dan bahan logam, grafit kemurnian tinggi yang kaku memiliki konduktivitas termal dan stabilitas kimia yang lebih baik, dan merupakan bahan komponen tambahan yang sangat baik untuk pertumbuhan epitaxial SiC.

Sebagai pemasok dan pabrik kain kempa kaku dengan kemurnian tinggi Tiongkok, VeTek Semiconductor menyediakan produk yang sangat disesuaikan, baik itu bahan atau ukuran produk, dapat disesuaikan untuk Anda. Selain itu, VeTek Semiconductor telah lama berkomitmen untuk menyediakan teknologi kain kempa kaku dengan kemurnian tinggi yang canggih dan solusi produk untuk industri semikonduktor. Kami dengan tulus berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di Tiongkok.

VETEK Semiconductor High Purity Rigid Felt Toko Produksi: