Berita

Berita

Kami dengan senang hati berbagi dengan Anda tentang hasil pekerjaan kami, berita perusahaan, dan memberi Anda perkembangan tepat waktu serta ketentuan pengangkatan dan pemindahan personel.
Kunci Efisiensi dan Optimalisasi Biaya: Analisis Pengendalian Stabilitas Bubur CMP dan Strategi Seleksi30 2026-01

Kunci Efisiensi dan Optimalisasi Biaya: Analisis Pengendalian Stabilitas Bubur CMP dan Strategi Seleksi

Dalam manufaktur semikonduktor, proses Planarisasi Mekanik Kimia (CMP) adalah tahap inti untuk mencapai planarisasi permukaan wafer, yang secara langsung menentukan keberhasilan atau kegagalan langkah litografi berikutnya. Sebagai bahan habis pakai yang penting dalam CMP, kinerja Polishing Slurry adalah faktor utama dalam mengendalikan Removal Rate (RR), meminimalkan cacat, dan meningkatkan hasil keseluruhan.
​Di Dalam Pembuatan Cincin Fokus SiC CVD Padat: Dari Grafit hingga Suku Cadang Presisi Tinggi23 2026-01

​Di Dalam Pembuatan Cincin Fokus SiC CVD Padat: Dari Grafit hingga Suku Cadang Presisi Tinggi

Dalam dunia manufaktur semikonduktor yang berisiko tinggi, di mana presisi dan lingkungan ekstrem hidup berdampingan, cincin fokus Silicon Carbide (SiC) sangat diperlukan. Dikenal karena ketahanan termalnya yang luar biasa, stabilitas kimia, dan kekuatan mekaniknya, komponen-komponen ini sangat penting untuk proses etsa plasma tingkat lanjut. Rahasia dibalik kinerjanya yang tinggi terletak pada teknologi Solid CVD (Chemical Vapour Deposition). Hari ini, kami membawa Anda ke balik layar untuk menjelajahi perjalanan produksi yang ketat—mulai dari substrat grafit mentah hingga "pahlawan tak terlihat" yang berpresisi tinggi.
Apa Beragam Aplikasi Kuarsa dalam Manufaktur Semikonduktor?14 2026-01

Apa Beragam Aplikasi Kuarsa dalam Manufaktur Semikonduktor?

Bahan kuarsa dengan kemurnian tinggi memainkan peran penting dalam industri semikonduktor. Ketahanannya terhadap suhu tinggi, ketahanan korosi, stabilitas termal, dan sifat transmisi cahaya yang unggul menjadikannya bahan habis pakai yang penting. Produk kuarsa digunakan untuk komponen di zona produksi wafer bersuhu tinggi dan bersuhu rendah, memastikan stabilitas dan kebersihan proses manufaktur.
Solusi terhadap Cacat Enkapsulasi Karbon pada Substrat Silikon Karbida12 2026-01

Solusi terhadap Cacat Enkapsulasi Karbon pada Substrat Silikon Karbida

Seiring dengan transisi energi global, revolusi AI, dan gelombang teknologi informasi generasi baru, silikon karbida (SiC) telah berkembang pesat dari “bahan potensial” menjadi “bahan dasar strategis” karena sifat fisiknya yang luar biasa.
Apa itu Perahu Wafer Keramik Silikon Karbida(SiC)?08 2026-01

Apa itu Perahu Wafer Keramik Silikon Karbida(SiC)?

Dalam proses semikonduktor suhu tinggi, penanganan, pendukung, dan perlakuan termal wafer bergantung pada komponen pendukung khusus—perahu wafer. Ketika suhu proses meningkat dan persyaratan kebersihan dan kontrol partikel meningkat, kapal wafer kuarsa tradisional secara bertahap mengungkapkan masalah seperti masa pakai yang pendek, tingkat deformasi yang tinggi, dan ketahanan terhadap korosi yang buruk.
Mengapa Pertumbuhan Kristal PVT SiC Stabil dalam Produksi Massal?29 2025-12

Mengapa Pertumbuhan Kristal PVT SiC Stabil dalam Produksi Massal?

Untuk produksi substrat silikon karbida skala industri, keberhasilan satu pertumbuhan bukanlah tujuan akhir. Tantangan sebenarnya terletak pada memastikan bahwa kristal yang ditumbuhkan pada batch, alat, dan periode waktu yang berbeda mempertahankan tingkat konsistensi dan pengulangan kualitas yang tinggi. Dalam konteks ini, peran lapisan tantalum karbida (TaC) lebih dari sekadar perlindungan dasar—lapisan ini menjadi faktor kunci dalam menstabilkan masa proses dan menjaga hasil produk.
X
Kami menggunakan cookie untuk menawarkan Anda pengalaman penelusuran yang lebih baik, menganalisis lalu lintas situs, dan mempersonalisasi konten. Dengan menggunakan situs ini, Anda menyetujui penggunaan cookie kami. Kebijakan Privasi
Menolak Menerima