Kami dengan senang hati berbagi dengan Anda tentang hasil pekerjaan kami, berita perusahaan, dan memberi Anda perkembangan tepat waktu serta ketentuan pengangkatan dan pemindahan personel.
Lihatlah Komponen utama Aixtron G10 untuk sistem epitaksi SiC suhu tinggi. Kami membahas komponen grafit berlapis SiC CVD, komponen pelapis TaC, dan struktur medan termal – serta bagaimana komponen tersebut membantu stabilitas proses, kontrol kemurnian, dan hasil wafer dalam manufaktur semikonduktor tingkat lanjut.
Pelajari apa itu komponen Halfmoon di ruang reaksi LPE dan bagaimana komponen tersebut mendukung stabilitas termal, manajemen aliran gas, dan struktur reaktor dalam sistem epitaksi SiC. Jelajahi material grafit, pelapisan CVD SiC, pelapisan TaC, dan teknologi reaktor semikonduktor modern.
Berjuang dengan tingkat hasil MicroLED? Temukan alasan para pemimpin industri beralih ke substrat SiC dan komponen MOCVD berlapis TaC untuk mengatasi tekanan termal dan kontaminasi partikel. Pelajari keunggulan teknis CVD SiC untuk tampilan GaN generasi berikutnya
Kami menggunakan cookie untuk menawarkan Anda pengalaman penelusuran yang lebih baik, menganalisis lalu lintas situs, dan mempersonalisasi konten. Dengan menggunakan situs ini, Anda menyetujui penggunaan cookie kami.Kebijakan Privasi