Produk
Pemanas Grafit Khusus Untuk Zona Panas
  • Pemanas Grafit Khusus Untuk Zona PanasPemanas Grafit Khusus Untuk Zona Panas

Pemanas Grafit Khusus Untuk Zona Panas

Dalam manufaktur semikonduktor dan pemrosesan material tingkat lanjut, stabilitas dan kemurnian medan termal secara langsung menentukan daya saing inti produk akhir. VETEK didedikasikan untuk R&D dan pembuatan sistem pemanas grafit berkinerja tinggi, memberikan solusi andal untuk MOCVD, epitaksi SiC, dan berbagai tungku vakum suhu tinggi.

Mengapa Memilih VETEK?


  ●Keseragaman Termal Ekstrim: Pemanas VETEK menjalani simulasi dan desain struktural yang tepat untuk memastikan konsistensi suhu yang luar biasa bahkan di lingkungan ekstrem hingga 2200°C, yang secara efektif meningkatkan hasil wafer.

  ●Jaminan Material dengan Kemurnian Tinggi: Kami secara ketat memilih grafit isostatik dengan kemurnian tinggi, menjaga kandungan abu pada tingkat yang sangat rendah untuk menghilangkan kontaminasi ion logam pada suhu tinggi dari sumbernya.

  ●Teknologi Pelapisan Canggih: Memanfaatkan kekuatan inti VETEK, kami menawarkan pelapis SiC (Silicon Carbide) opsional. Hal ini secara signifikan meningkatkan ketahanan oksidasi dan korosi, memastikan masa pakai lebih lama di lingkungan gas kimia yang keras.

  ●Kustomisasi Presisi: Baik itu struktur cakram silinder, spiral, atau kompleks, VETEK menyediakan pemesinan presisi tinggi berdasarkan gambar teknis Anda untuk memastikan kesesuaian sempurna dengan peralatan Anda.

  ●Perlindungan Logistik Komprehensif: Menyadari sifat rapuh dari grafit, VETEK telah meningkatkan sistem pengemasannya. Penguatan anti guncangan multi-lapis kami memastikan "tidak ada kerusakan" selama transit internasional, sehingga menghilangkan kekhawatiran akan penundaan produksi.


Bidang Aplikasi Inti

  ●Epitaksi Semikonduktor: Komponen medan termal inti untuk peralatan MOCVD (kompatibel dengan model mainstream seperti K465i).

  ●Pertumbuhan Kristal SiC: Kontrol medan termal presisi untuk pertumbuhan Silikon Karbida dan bahan semikonduktor celah pita lebar lainnya.

  ●Peralatan Vakum Suhu Tinggi: Banyak digunakan dalam tungku sintering vakum, pematrian presisi, dan peralatan perlakuan panas kelas atas.

  ●Substrat untuk Pelapisan Tingkat Lanjut: Bahan dasar yang ideal untuk pelapis CVD SiC, SiN, atau SiO.


Spesifikasi Teknis

Kami juga mendukung material khusus dengan tingkat kemurnian lebih tinggi untuk kondisi pengoperasian tertentu.


Spesifikasi Teknis
Nilai Referensi
Kepadatan Massal
≥1,85 gram/cm3
Kandungan Abu
≤500 PPM
Kekerasan Pantai
≥45
Resistensi Spesifik
≤12 \muΩ⋅m
Kekuatan Lentur
≥40 MPa
Kekuatan Tekan
≥70 MPa
Maks. Ukuran Butir
≤43 \ibu
Koefisien Ekspansi Termal (CTE)
≤4.4×10−6/∘C
Spesifikasi Teknis
Nilai Referensi

Toko Produk Veteksemicon

Veteksemicon Products Shop

Tag Panas: Pemanas Grafit Khusus Untuk Zona Panas
mengirimkan permintaan
Info kontak
Untuk pertanyaan tentang Lapisan Silikon Karbida, Lapisan Tantalum Karbida, Grafit Khusus atau daftar harga, silakan tinggalkan email Anda kepada kami dan kami akan menghubungi Anda dalam waktu 24 jam.
X
Kami menggunakan cookie untuk menawarkan Anda pengalaman penelusuran yang lebih baik, menganalisis lalu lintas situs, dan mempersonalisasi konten. Dengan menggunakan situs ini, Anda menyetujui penggunaan cookie kami. Kebijakan Privasi
Menolak Menerima