Layanan Pembersihan Bagian Grafit Lapisan SiC CVD

1. Tantangan yang Mungkin Anda Hadapi

• Lapisan AlN Sulit Dihapus:Pembersihan termal 1300°C masih belum dapat secara efektif mengetsa sisa lapisan AlN.

• Efek Memori Berulang:Efek memori permukaan menyebabkan aliran gas tidak stabil di dalam reaktor, sehingga berdampak pada konsistensi proses.

• Dampak Siklus Pembersihants Keluaran:Biasanya setiap 16 siklus proses (4–5 suseptor) memerlukan pembersihan eksternal.

• Kekhawatiran Terhadap Kerusakan Lapisan yang Mahal:Kurangnya pengalaman pembersihan bahan kimia internal membuat operator ragu untuk melakukan pembersihan secara agresif.

2. Solusi Kami – Dirancang untuk Proses GaN / AlN / AlGaN

• Pembersihan Profesional:Proses khusus dikembangkan secara khusus untuk bagian grafit berlapis CVD SiC. Tidak diperlukan formula kimia dari pelanggan.

• Keamanan Pelapisan:Melindungi secara ketat lapisan SiC CVD 100 µm. Kehilangan ketebalan nol mutlak setelah dibersihkan.

• Hasil yang Dapat Diverifikasi:Sertifikat Analisis Lengkap (COA) yang mencakup lima dimensi inti. Data siap untuk diarsipkan dan diaudit kualitas.

3. Lima Kriteria Penerimaan Inti

Benar-benar selaras dengan persyaratan penting pengguna epitaksi semikonduktor:

1. Nol Kerugian Lapisan– Ketebalan lapisan SiC tidak pernah berkurang setelah dibersihkan (verifikasi perbandingan ketebalan sebelum/sesudah).

2. Tidak Ada Deformasi Permukaan– Kerataan dan keakuratan geometri diperiksa secara ketat untuk memastikan tidak ada deformasi fisik.

3. Hilangkan Efek Memori– Analisis XPS untuk sisa Al/Ga mengonfirmasi penghapusan sumber efek memori secara menyeluruh.

4. Nol Residu Logam– Pengujian ICP-MS untuk Fe, Cu, Ni dan logam lainnya memastikan tidak ada sisa pengotor logam.

5. Tidak Ada Partikel Berlebihan– Uji partikel QIII ditambah verifikasi kebersihan mencegah ketidakstabilan aliran gas yang disebabkan oleh partikel sisa.

4. Laporan Inspeksi Pengiriman & COA

Setiap batch dikirimkan dengan data verifikasi lengkap di lima dimensi inti:

5. Latar Belakang Produk & Proses yang Berlaku

Parameter Produk

Proses Pelayanan

1. Penyelidikan– Kirim foto bagian/model/kuantitas untuk evaluasi.

2. Kutipan– Evaluasi teknis dan proposal pembersihan terperinci dengan kutipan.

3. Pengiriman– Kirim suku cadang kepada kami atau atur layanan penjemputan.

4. Pembersihan– Pembersihan profesional + inspeksi multi-dimensi penuh.

5. Laporkan– Laporan COA dikeluarkan dan suku cadang yang dibersihkan dikembalikan.

6. Tindak lanjut– Pelacakan efek dan dukungan teknis berkelanjutan.

6. Mengapa Memilih Layanan Kebersihan VETEK?

VETEK menggabungkan keahlian mendalam dalam teknologi pelapisan CVD SiC dengan kemampuan pembersihan khusus untuk kerentanan grafit bernilai tinggi. Kami memahami pentingnya integritas lapisan, kontrol partikel, dan kemurnian proses dalam epitaksi GaN/AlN. Layanan kami dirancang untuk pelanggan yang membutuhkan keamanan mutlak untuk pelapis CVD SiC yang mahal sekaligus menyelesaikan masalah efek memori dan ketidakstabilan aliran gas.

· Pembersihan percobaan tersedia untuk verifikasi skala kecil

· Laporan COA lengkap diberikan pada setiap pengiriman

· Tidak ada risiko kerusakan lapisan atau kontaminasi baru

· Profesional · Aman · Dapat Diverifikasi