CVD TAC Coating Crucible

Kerentanan rotasi pelapis TAC memainkan peran kunci dalam proses deposisi suhu tinggi seperti CVD dan MBE, dan merupakan komponen penting untuk pemrosesan wafer dalam manufaktur semikonduktor. Di antara mereka,TAC Coatingmemiliki ketahanan suhu tinggi yang sangat baik, ketahanan korosi dan stabilitas kimia, yang memastikan presisi tinggi dan kualitas tinggi selama pemrosesan wafer.

CVD TAC Coating Crucible biasanya terdiri dari lapisan TAC dangrafitsubstrat. Di antara mereka, TAC adalah bahan keramik titik leleh yang tinggi dengan titik leleh hingga 3880 ° C. Ini memiliki kekerasan yang sangat tinggi (kekerasan Vickers hingga 2000 HV), ketahanan korosi kimia dan resistensi oksidasi yang kuat. Oleh karena itu, pelapisan TAC adalah bahan tahan suhu tinggi yang sangat baik dalam teknologi pemrosesan semikonduktor.

Substrat grafit memiliki konduktivitas termal yang baik (konduktivitas termal adalah sekitar 21 W/m · k) dan stabilitas mekanis yang sangat baik. Karakteristik ini menentukan bahwa grafit menjadi lapisan yang idealsubstrat.

CVD TAC Coating Crucible terutama digunakan dalam teknologi pemrosesan semikonduktor berikut:

Manufaktur wafer: VETEK Semikonduktor CVD TAC Coating Crucible memiliki resistensi suhu tinggi yang sangat baik (titik leleh hingga 3880 ° C) dan resistensi korosi, sehingga sering digunakan dalam proses pembuatan wafer utama seperti deposisi uap suhu tinggi (CVD) dan pertumbuhan epitaxial. Dikombinasikan dengan stabilitas struktural produk yang sangat baik di lingkungan suhu ultra-tinggi, ini memastikan bahwa peralatan dapat beroperasi secara stabil untuk waktu yang lama dalam kondisi yang sangat keras, sehingga secara efektif meningkatkan efisiensi produksi dan kualitas wafer.

Proses pertumbuhan epitaxial: Dalam proses epitaxial sepertiDeposisi Uap Kimia (CVD)dan Epitaxy Balok Molekul (MBE), CVD TAC Coating Crucible memainkan peran kunci dalam membawa. Lapisan TAC -nya tidak hanya dapat mempertahankan kemurnian material yang tinggi di bawah suhu ekstrem dan atmosfer korosif, tetapi juga secara efektif mencegah kontaminasi reaktan pada material dan korosi reaktor, memastikan keakuratan proses produksi dan konsistensi produk.

Sebagai produsen dan pemimpin CVD Coating Coating Crucible terkemuka China, Vetek Semiconductor dapat menyediakan produk dan layanan teknis yang disesuaikan sesuai dengan peralatan dan persyaratan proses Anda. Kami dengan tulus berharap menjadi mitra jangka panjang Anda di Cina.

Tantalum carbide (TAC) Lapisan pada penampang mikroskopis：

Sifat fisik pelapis TAC：

Itu semikonduktor CVD TAC Coating Toko Crucible ：