Pembawa wafer sic horizontal

Menangani semikonduktorPembawa Wafer SiC Horisontal/Perahu memiliki titik leleh yang sangat tinggi (sekitar 2700 ° C), yang memungkinkanPembawa Wafer SiC Horisontal/Perahu untuk bekerja secara stabil di lingkungan suhu tinggi tanpa deformasi atau degradasi. Fitur ini sangat penting dalam proses pembuatan semikonduktor, terutama dalam proses seperti anil suhu tinggi atau deposisi uap kimia (CVD).

ItuPembawa Wafer SiC Horisontal/Perahu secara khusus memainkan peran berikut dalam proses membawa pembawa wafer:

Pembawa dan penyangga wafer silikon: Perahu Wafer SiC Horisontal terutama digunakan untuk membawa dan mendukung wafer silikon selama pembuatan semikonduktor. Ini dapat dengan kuat mengatur beberapa wafer silikon bersama-sama untuk memastikan bahwa wafer tersebut tetap dalam posisi dan stabilitas yang baik selama seluruh proses pemrosesan.

Pemanasan dan pendinginan seragam: Karena tingginya konduktivitas termal SIC, kapal wafer dapat secara efektif mendistribusikan panas secara merata ke semua wafer silikon. Ini membantu mencapai pemanasan yang seragam atau pendinginan wafer silikon selama pemrosesan suhu tinggi, memastikan konsistensi dan keandalan proses pemrosesan.

Mencegah kontaminasi: Stabilitas kimia SiC memungkinkannya bekerja dengan baik di lingkungan gas bersuhu tinggi dan korosif, sehingga mengurangi paparan wafer silikon terhadap kemungkinan kontaminan atau reaktan, sehingga memastikan kemurnian dan kualitas wafer silikon.

Faktanya, kapal wafer SIC horizontal dapat memainkan peran di atas karena karakteristik produk yang unik:

Stabilitas kimia yang sangat baik: Bahan SiC memiliki ketahanan korosi yang sangat baik terhadap berbagai media kimia. Dalam proses pemrosesan gas atau cairan korosif, SiC Wafer Boat dapat secara efektif menahan korosi kimia dan melindungi wafer silikon dari kontaminasi atau kerusakan.

Konduktivitas termal yang tinggi: Konduktivitas termal SiC yang tinggi membantu mendistribusikan panas secara merata dalam proses pembawa dan mengurangi akumulasi panas. Hal ini dapat meningkatkan akurasi kontrol suhu selama pemrosesan presisi dan memastikan pemanasan atau pendinginan wafer silikon yang seragam.

Koefisien ekspansi termal rendah: Koefisien muai panas bahan SiC yang rendah berarti perubahan dimensi SiC Wafer Boat sangat kecil selama perubahan suhu. Hal ini membantu menjaga stabilitas dimensi selama pemrosesan suhu tinggi dan mencegah deformasi atau perpindahan posisi wafer silikon yang disebabkan oleh ekspansi termal.

Sifat fisik dasar Pembawa Wafer SiC Horisontal:

Bandingkan toko produksi semikonduktor:

Ikhtisar rantai industri epitaksi chip semikonduktor: