Proses Pengetsaan ICP/PSS

VeTek Semiconductor ICPPSS (Induktif Coupled Plasma Photoresist Stripping) Proses Etsa Wafer Carrier dirancang khusus untuk memenuhi tuntutan persyaratan proses etsa industri semikonduktor. Dengan fitur-fitur canggihnya, ini memastikan kinerja, efisiensi, dan keandalan yang optimal di seluruh proses etsa.

Keuntungan dari Susveptor Proses Etsa ICP/PSS Semikonduktor VeTek:

Kompatibilitas Kimia yang Ditingkatkan: Pembawa wafer dibuat menggunakan bahan yang menunjukkan kompatibilitas kimia yang sangat baik dengan kimia proses etsa. Hal ini memastikan kompatibilitas dengan berbagai macam bahan pengetsa, pengupas tahan, dan larutan pembersih, sehingga meminimalkan risiko reaksi kimia atau kontaminasi.

Tahan Suhu Tinggi: Pembawa wafer dirancang untuk menahan suhu tinggi yang ditemui selama proses etsa. Ia mempertahankan integritas struktural dan kekuatan mekaniknya, mencegah deformasi atau kerusakan bahkan dalam kondisi termal yang ekstrim.

Keseragaman Etch yang Unggul: Pengangkut memiliki desain yang dirancang secara presisi yang mendorong distribusi etsa dan gas yang seragam di seluruh permukaan wafer. Hal ini menghasilkan tingkat pengetsaan yang konsisten dan pola seragam berkualitas tinggi, yang penting untuk mencapai hasil pengetsaan yang presisi dan andal.

Stabilitas Wafer yang Sangat Baik: Pengangkut dilengkapi mekanisme penahan wafer yang aman yang memastikan posisi stabil dan mencegah pergerakan atau selip wafer selama proses etsa. Hal ini menjamin pola etsa yang akurat dan berulang, meminimalkan cacat dan kehilangan hasil.

Kompatibilitas Ruang Bersih: Pembawa wafer dirancang untuk memenuhi standar ruang bersih yang ketat. Fitur ini menghasilkan pembentukan partikel yang rendah dan kebersihan yang sangat baik, mencegah kontaminasi partikel apa pun yang dapat mengganggu kualitas dan hasil proses etsa. Pengotor di bawah 5 ppm.

Konstruksi Kuat dan Tahan Lama: Pengangkut dibuat menggunakan bahan berkualitas tinggi yang dikenal karena daya tahan dan umurnya yang panjang. Bahan ini tahan terhadap penggunaan berulang dan proses pembersihan yang ketat tanpa mengurangi kinerja atau integritas strukturalnya.

Desain yang Dapat Disesuaikan: Kami menawarkan opsi yang dapat disesuaikan untuk memenuhi kebutuhan pelanggan tertentu. Pembawa dapat disesuaikan untuk mengakomodasi ukuran wafer, ketebalan, dan spesifikasi proses yang berbeda, memastikan kompatibilitas dengan berbagai peralatan dan proses etsa.

Rasakan keandalan dan kinerja Pembawa Wafer Proses Etsa ICP/PSS kami, yang dirancang untuk mengoptimalkan proses etsa di industri semikonduktor. Kompatibilitas bahan kimianya yang ditingkatkan, ketahanan suhu tinggi, keseragaman etsa yang unggul, stabilitas wafer yang sangat baik, kompatibilitas ruang bersih, konstruksi yang kuat, dan desain yang dapat disesuaikan menjadikannya pilihan ideal untuk aplikasi etsa Anda.

Pelat Etsa PSS Pelat Etsa ICP Penerima Etsa ICP