Teknologi MOCVD

Vetek Semiconductor SIC yang dilapisi grafit kerentanan barel adalah baki wafer berkinerja tinggi yang dirancang untuk proses epikonduktor epikonduktor, menawarkan konduktivitas termal yang sangat baik, resistensi suhu tinggi dan kimia, permukaan dengan kemurnian tinggi, dan opsi yang dapat disesuaikan untuk meningkatkan efisiensi produksi. Selamat datang pertanyaan Anda lebih lanjut.

Sebagai pemasok dan produsen kerentanan epitaxial GAN ​​terkemuka di China, vetek semikonduktor GAN Epitaxial Ronsceptor adalah kerentanan presisi tinggi yang dirancang untuk proses pertumbuhan epitaxial GAN, yang digunakan untuk mendukung peralatan epitaxial seperti CVD dan MOCVD. Dalam pembuatan perangkat GAN (seperti perangkat elektronik daya, perangkat RF, LED, dll.), Rekan epitaxial GAN ​​membawa substrat dan mencapai deposisi berkualitas tinggi dari film tipis Gan di bawah lingkungan suhu tinggi. Selamat datang pertanyaan Anda lebih lanjut.

Vetek Semiconductor menghasilkan pemanas MOCVD grafit SIC, yang merupakan komponen kunci dari proses MOCVD. Berdasarkan substrat grafit dengan kemurnian tinggi, permukaan dilapisi dengan lapisan SIC dengan kemurnian tinggi untuk memberikan stabilitas suhu tinggi yang sangat baik dan ketahanan korosi. Dengan layanan produk yang berkualitas tinggi dan sangat disesuaikan, pemanas MOCVD graphite graphite SIC Vetek Semiconductor adalah pilihan ideal untuk memastikan stabilitas proses MOCVD dan kualitas deposisi film tipis. Vetek Semiconductor berharap untuk menjadi pasangan Anda.

VeTek Semiconductor adalah produsen dan pemasok produk pelapis SiC terkemuka di Cina. Susceptor Epi berlapis silikon karbida VeTek Semiconductor memiliki tingkat kualitas terbaik di industri, cocok untuk berbagai gaya tungku pertumbuhan epitaksi, dan menyediakan layanan produk yang sangat disesuaikan. VeTek Semiconductor berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di Tiongkok.

Penutup satelit yang dilapisi SIC untuk MOCVD memainkan peran yang tak tergantikan dalam memastikan pertumbuhan epitaxial berkualitas tinggi pada wafer karena ketahanan suhu yang sangat tinggi, ketahanan korosi yang sangat baik dan ketahanan oksidasi yang luar biasa.

CVD SIC Wafer Barrel Holder adalah komponen kunci dari tungku pertumbuhan epitaxial, yang banyak digunakan dalam tungku pertumbuhan epitaxial MOCVD. Vetek Semiconductor memberi Anda produk yang sangat disesuaikan. Tidak peduli apa kebutuhan Anda untuk pemegang Barrel Wafer CVD SIC, selamat datang untuk berkonsultasi dengan kami.