Tabung Tungku Kuarsa untuk Tungku Difusi

1. Fitur & Keunggulan Utama

• Kuarsa leburan dehidroksilasi dengan kemurnian sangat tinggi (SiO₂ ≥ 99,999%) dengan pengotor logam terkontrol pada tingkat ppb dan kandungan hidroksil yang sangat rendah

• Suhu pengoperasian jangka panjang hingga 1100 °C; resistensi puncak jangka pendek hingga 1200 °C

• Ketahanan guncangan termal yang sangat baik setelah anil pelepas tegangan penuh—tahan terhadap retak pada perubahan suhu yang cepat

• Kelambanan kimia yang luar biasa terhadap gas proses pengoksidasi, pereduksi, dan yang mengandung halogen; cocok untuk plasma dan atmosfer korosif

• Pelepasan gas vakum yang sangat rendah; dinding bagian dalam yang halus meminimalkan penumpukan produk sampingan dan mendukung pengulangan proses

• Pembentukan satu bagian dengan ketebalan dinding yang seragam, koaksialitas tinggi, dan penyelesaian akhir yang presisi untuk penyegelan yang andal

• Struktur yang dapat disesuaikan: tabung lurus, tabung peredam, tabung berflensa, panjang yang diperpanjang, dan konfigurasi ujung khusus untuk tungku vertikal atau horizontal

2. Aplikasi Khas

Tabung tungku kuarsa VeTek banyak digunakan sebagai ruang reaksi inti di:

• Tungku oksidasi termal (oksidasi kering/basah)

• Tungku difusi untuk pengenalan dopan (B, P, As, dll.)

• Sistem LPCVD untuk pengendapan film tipis

• Vacuum annealing dan proses perlakuan panas suhu tinggi lainnya

• Kompatibel dengan platform wafer 4 inci, 6 inci, 8 inci, dan 12 inci (substrat Si, SiC, GaN, safir)

Mereka mendukung logika, memori, perangkat daya, MCU, LED, MEMS, dan lini produksi semikonduktor celah pita lebar yang memerlukan keseragaman suhu yang stabil, kontrol aliran gas, dan lingkungan proses yang sangat bersih.

3. Parameter Teknis Utama

• Bahan: Kuarsa leburan dehidroksilasi tingkat semikonduktor (SiO₂ ≥ 99,999%), hidroksil rendah, pengotor logam rendah

• Kompatibilitas wafer: 4/6/8/12 inci

• Suhu kerja jangka panjang: −20 °C hingga 1100 °C; puncak jangka pendek hingga 1200 °C

• Proses: Pembentukan termal satu bagian, homogenisasi dinding, penyelesaian akhir, anil pelepas stres, uji kebocoran helium, pembersihan ultra-bersih

• Struktur yang tersedia: Tabung lurus, tabung peredam, tabung berflensa, tabung diperpanjang / panjang khusus, konfigurasi ujung khusus

• Kustomisasi: Diameter dalam/luar, panjang, ketebalan dinding, spesifikasi flensa, dan geometri khusus sesuai gambar pelanggan

4. Mengapa Memilih Tabung Tungku Kuarsa VeTek?

Sebagai produsen profesional komponen kuarsa semikonduktor, VeTek Semiconductor menawarkan:

• Tabung tungku kuarsa dengan kemurnian tinggi yang dirancang untuk peralatan oksidasi, difusi, LPCVD, dan anil

• Kontrol kemurnian yang ketat, akurasi dimensi, dan kebersihan yang sesuai untuk produksi ruang bersih Kelas 10 / Kelas 100

• Kustomisasi penuh dan desain yang kompatibel dengan OEM untuk tungku tabung vertikal dan horizontal

• Produk kuarsa semikonduktor pelengkap termasuk perahu wafer, cawan lebur, pelapis, dan komponen proses lainnya

Tabung tungku kuarsa kami membantu menjaga kestabilan kondisi aliran termal dan gas, meminimalkan kontaminasi partikel dan logam, serta memperpanjang masa pakai dalam siklus suhu tinggi yang berkelanjutan—mendukung hasil yang lebih tinggi dan biaya kepemilikan yang lebih rendah dalam pemrosesan termal semikonduktor.