Wadah Grafit Tiga Bagian

Fitur Utama
· Grafit isostatik kemurnian tinggi dengan kadar abu ≤5 ppm setelah pemurnian.

· Desain modular tiga bagian meminimalkan tekanan termal dan memperpanjang masa pakai.

· Konduktivitas termal yang sangat baik untuk distribusi suhu yang stabil.

· Ketahanan guncangan termal yang luar biasa pada pemanasan dan pendinginan berulang.

· Kompatibel dengan pelapis CVD SiC, TaC, dan PyC opsional.

· Pemesinan CNC presisi memastikan toleransi dimensi yang ketat.

· Ukuran dan struktur khusus tersedia sesuai dengan gambar pelanggan.

Spesifikasi

Aplikasi
· Pertumbuhan kristal PVT SiC

· Sistem medan termal semikonduktor

· Tungku pertumbuhan kristal

· Tungku vakum suhu tinggi

· Pertumbuhan kristal semikonduktor senyawa

· Peralatan penelitian dan pengembangan semikonduktor

Mengapa Bekerja dengan VETEK?

· Menyelesaikan produksi internal mulai dari pemurnian grafit hingga pelapisan.

· Pemesinan CNC tingkat lanjut dan kontrol kualitas tingkat semikonduktor.

· Teknologi pelapisan SiC, TaC, dan PyC opsional.

· Pembuatan khusus berdasarkan gambar atau model peralatan.

· Pasokan global yang stabil dan dukungan teknis yang andal.