Pemanas veeco mocvd

Pemanas VEECO MOCVD VeTeksemi terbuat dari bahan grafit dengan kemurnian tinggi dengan kandungan pengotor yang dikontrol secara ketat di bawah 5 ppm, dan dilapisi dengan silikon karbida (SiC) dengan kemurnian sangat tinggi dengan kemurnian lebih dari 99,99995% melalui aProses Deposisi Uap Kimia (CVD). Kombinasi bahan ini memberikan pemanas serangkaian properti utama yang memastikan kinerja yang sangat baik diDeposisi uap kimia organik logam (MOCVD)proses.

Salah satu fitur luar biasa dari pemanas VEECO MOCVD adalah kemurnian kimianya yang luar biasa. Inti grafit dengan kemurnian tinggi sangat mengurangi potensi pengenalan kontaminan dalam proses suhu tinggi, memastikan proses deposisi film yang sangat bersih. ItuCVD SIC COATINGmemberikan perlindungan tambahan pada pemanas, membentuk penghalang kuat untuk mencegah reaksi kimia yang dapat merusak kualitas film. Kemurnian yang tak tertandingi ini penting untuk pembuatan perangkat semikonduktor berkinerja tinggi dan andal.

Pada saat yang sama, pemanas menunjukkan stabilitas dan efisiensi termal yang sangat tinggi. SiC memiliki titik leleh yang tinggi dan konduktivitas termal yang sangat baik, memungkinkan pemanas mengelola dan menghantarkan panas secara efektif. Hal ini memastikan pemanasan yang seragam di seluruh substrat, yang pada gilirannya membantu mencapai deposisi film yang seragam dan mengurangi cacat yang disebabkan oleh gradien termal. Efisiensi termal seperti ini sangat penting untuk manufaktur presisi.

Pemanas VEECO MOCVD juga unggul dalam kinerja kelistrikan. Inti grafit dengan kemurnian tinggi memiliki konduktivitas listrik yang sangat baik, memungkinkan pemanas menangani kebutuhan beban listrik yang tinggi. Kinerja kelistrikan yang stabil ini memungkinkan pemanas mempertahankan kontrol suhu dan laju deposisi yang tepat dalam kondisi beban tinggi, yang sangat penting untuk memastikan kondisi proses yang konsisten dan meningkatkan efisiensi produksi semikonduktor.

Desain permukaan pemanas telah dioptimalkan dengan hati -hati untuk memiliki emisivitas substrat tinggi, yang secara signifikan meningkatkan efisiensi perpindahan panas radiasi. Kemampuan untuk memanaskan secara merata adalah faktor kunci dalam memastikan ketebalan dan karakteristik deposisi film yang konsisten. Desain permukaan emisivitas yang tinggi juga meningkatkan efisiensi termal pemanas secara keseluruhan, sehingga mengurangi konsumsi energi dan menurunkan biaya operasi.

Dalam hal daya tahan, pemanas VEECO MOCVD VeTeksemi menunjukkan ketahanan korosi, ketahanan oksidasi, dan kekuatan mekanik yang sangat baik. Lapisan CVD SiC memberikan penghalang yang kuat terhadap gas korosif dan bahan kimia yang umum dalam proses MOCVD, sehingga memperpanjang umur peralatan dan mengurangi kebutuhan pemeliharaan dan biaya penggantian. Ketahanan oksidasi memastikan pemanas tetap stabil pada suhu tinggi tanpa penurunan kinerja, memastikan stabilitas jangka panjang.

Selain itu, kekuatan mekanik yang tinggi dari pemanas MOCVD Veteksemi memungkinkannya untuk menahan tekanan fisik yang dihasilkan selama bersepeda termal dan penanganan substrat. Ketahanannya mengurangi risiko kegagalan mekanis dan memastikan operasi peralatan yang andal dalam kondisi proses yang keras.

Sebagai produsen dan pemasok produk pemanas VEECO MOCVD yang canggih, VeTeksemi juga menyediakan berbagai produk pemanas berkualitas tinggi sepertiPemanas Lapisan TaC, pemanas grafit lapisan keramik silikon karbida, pemanas pelapis keramik silikon karbida, dll. VeTek Semiconductor berkomitmen untuk menyediakan teknologi dan solusi produk yang canggih dan dapat disesuaikan untuk industri semikonduktor. Kami sangat berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di Tiongkok.