Produk

Langit -langit yang dilapisi CVD SIC semikonduktor Vetek memiliki sifat yang sangat baik seperti ketahanan suhu tinggi, ketahanan korosi, kekerasan tinggi, dan koefisien ekspansi termal rendah, menjadikannya pilihan bahan yang ideal dalam pembuatan semikonduktor. Sebagai produsen dan pemasok langit -langit yang dilapisi CVD SIC terkemuka, Vetek Semiconductor menantikan konsultasi Anda.

Vetek Semiconductor adalah produsen profesional rentak EPI LED MOCVD di Cina. Rekan EPI LED MOCVD kami dirancang untuk menuntut aplikasi peralatan epitaxial. Konduktivitas termal yang tinggi, stabilitas kimia, dan daya tahannya adalah faktor kunci untuk memastikan proses pertumbuhan epitaxial yang stabil dan produksi film semikonduktor.

SIC Coating ALD Ronsceptor adalah komponen pendukung yang secara khusus digunakan dalam proses Deposisi Lapisan Atom (ALD). Ini memainkan peran kunci dalam peralatan ALD, memastikan keseragaman dan ketepatan proses deposisi. Kami percaya bahwa produk kerentanan planet ALD kami dapat memberi Anda solusi produk berkualitas tinggi.

Tabung pelapis TaC VeTek Semiconductor adalah komponen kunci untuk keberhasilan pertumbuhan kristal tunggal silikon karbida. Dengan ketahanan suhu tinggi, kelembaman kimia, dan kinerja luar biasa, yang menjamin produksi kristal berkualitas tinggi dengan hasil yang konsisten. Percayai solusi inovatif kami untuk meningkatkan proses pertumbuhan kristal SiC metode PVT Anda dan mencapai hasil yang luar biasa. Selamat datang untuk bertanya kepada kami.

Vetek Semiconductor menawarkan chuck keramik SIC berpori yang banyak digunakan dalam teknologi pemrosesan wafer, transfer dan tautan lainnya, cocok untuk ikatan, pencipta, tambalan, pemolesan dan tautan lainnya, pemrosesan laser. Chuck keramik SIC kami yang berpori memiliki adsorpsi vakum yang sangat kuat, kerataan tinggi dan kemurnian tinggi memenuhi kebutuhan sebagian besar industri semikonduktor. Diskusi untuk menanyakan kami.

Susceptor RTP berlapis CVD SiC dari VeTek Semiconductor melayani pemrosesan termal cepat (RTP) dan peralatan anil termal cepat (RTA) yang digunakan di seluruh manufaktur semikonduktor. Substrat dibuat dari grafit isostatik dengan kemurnian tinggi, yang di atasnya diendapkan lapisan silikon karbida (SiC) CVD yang padat. Konstruksi ini menghasilkan konduktivitas termal yang tinggi, kelembaman kimia yang kuat, dan stabilitas dimensi yang berkelanjutan dalam siklus suhu tinggi yang berulang.