Produk

Vetek Semiconductor menawarkan chuck keramik SIC berpori yang banyak digunakan dalam teknologi pemrosesan wafer, transfer dan tautan lainnya, cocok untuk ikatan, pencipta, tambalan, pemolesan dan tautan lainnya, pemrosesan laser. Chuck keramik SIC kami yang berpori memiliki adsorpsi vakum yang sangat kuat, kerataan tinggi dan kemurnian tinggi memenuhi kebutuhan sebagian besar industri semikonduktor. Diskusi untuk menanyakan kami.

Susceptor RTP berlapis CVD SiC dari VeTek Semiconductor melayani pemrosesan termal cepat (RTP) dan peralatan anil termal cepat (RTA) yang digunakan di seluruh manufaktur semikonduktor. Substrat dibuat dari grafit isostatik dengan kemurnian tinggi, yang di atasnya diendapkan lapisan silikon karbida (SiC) CVD yang padat. Konstruksi ini menghasilkan konduktivitas termal yang tinggi, kelembaman kimia yang kuat, dan stabilitas dimensi yang berkelanjutan dalam siklus suhu tinggi yang berulang.

Lapisan TAC saat ini terutama digunakan dalam proses seperti pertumbuhan kristal tunggal silikon karbida (metode PVT), disk epitaxial (termasuk epitaxy silikon karbida, epitaxy LED), dll. Dikombinasikan dengan stabilitas jangka panjang pelat pelapis TAC yang baik. Kami berharap Anda menjadi mitra jangka panjang kami.

Sebagai inti yang dapat dikonsumsi dalam proses pembuatan semikonduktor, grafit berpori memainkan peran yang tak tergantikan dalam berbagai tautan seperti pertumbuhan kristal, doping, dan anil. Sebagai produsen profesional grafit berpori, Vetek Semiconductor berkomitmen untuk menyediakan produk grafit berpori berkualitas tinggi dengan harga kompetitif, menyambut pertanyaan Anda lebih lanjut.

GAN pada rangsangan EPI SIC memainkan peran penting dalam pemrosesan semikonduktor melalui konduktivitas termal yang sangat baik, kemampuan pemrosesan suhu tinggi dan stabilitas kimia, dan memastikan efisiensi tinggi dan kualitas material dari proses pertumbuhan epitaxial GAN. Vetek Semiconductor adalah produsen Profesional GAN ​​di China di SIC EPI RMOSCECTOR, kami dengan tulus menantikan konsultasi lebih lanjut Anda.

CVD TAC Coating Carrier terutama dirancang untuk proses epitaxial dari manufaktur semikonduktor. Titik lebur ultra-tinggi CVD TAC CVD, resistensi korosi yang sangat baik, dan stabilitas termal yang luar biasa menentukan ketidaksetujuan produk ini dalam proses epitaxial semikonduktor. Selamat datang pertanyaan Anda lebih lanjut.