Pemegang Epi Wafer

Vetek Semiconductor mendukung layanan produk khusus, sehingga Epi Wafer Holder dapat memberi Anda layanan produk khusus berdasarkan ukurankue kue wafer(100mm, 150mm, 200mm, 300mm, dll.). Kami dengan tulus berharap menjadi mitra jangka panjang Anda di Cina.

Fungsi dan Prinsip Kerja Pemegang Epi Wafer

Di ranah manufaktur semikonduktor, proses epitaks sangat penting untuk membuat perangkat semikonduktor kinerja tinggi. Inti dari proses ini adalah pemegang Epi Wafer, yang memainkan peran sentral dalam memastikan kualitas dan efisiensipertumbuhan epitaxial.

Pemegang Epi Wafer terutama dirancang untuk memegang wafer dengan aman selama proses epitaks. Tugas utamanya adalah mempertahankan wafer dalam lingkungan suhu dan aliran gas yang dikendalikan dengan tepat. Kontrol yang sangat teliti ini memungkinkan bahan epitaxial diendapkan secara merata pada permukaan wafer, langkah penting dalam menciptakan lapisan semikonduktor berkualitas yang seragam dan tinggi.

Di bawah kondisi suhu tinggi yang khas dari proses epitaxy, pemegang wafer epi unggul dalam fungsinya. Ini dengan kuat memperbaiki wafer di dalam ruang reaksi sambil dengan cermat menghindari potensi kerusakan, seperti goresan, dan mencegah kontaminasi partikel pada permukaan wafer.

Properti Material:MengapaSilikon karbida (sic)Bersinar

Pemegang Epi Wafer sering dibuat dari silikon karbida (sic), bahan yang menawarkan kombinasi unik dari sifat menguntungkan. SIC memiliki koefisien ekspansi termal rendah sekitar 4,0 x 10⁻⁶ /° C. Karakteristik ini sangat penting dalam menjaga stabilitas dimensi pemegang pada suhu tinggi. Dengan meminimalkan ekspansi termal, secara efektif mencegah tegangan pada wafer yang sebaliknya dapat dihasilkan dari perubahan ukuran terkait suhu.

Selain itu, SIC menawarkan stabilitas suhu tinggi yang sangat baik. Ini dapat dengan mulus menahan suhu tinggi mulai dari 1.200 ° C hingga 1.600 ° C yang dibutuhkan dalam proses epitaxy. Ditambah dengan ketahanan korosi yang luar biasa dan konduktivitas termal yang mengagumkan (biasanya antara 120 - 160 W/mK), SIC muncul sebagai pilihan optimal untuk pemegang wafer epitaxial.

Fungsi utama dalam proses epitaxial

Pentingnya Epi Wafer Holder dalam proses epitaxial tidak dapat dilebih -lebihkan. Berfungsi sebagai pembawa yang stabil di bawah lingkungan gas suhu tinggi dan korosif, memastikan bahwa wafer tetap tidak terpengaruh selama pertumbuhan epitaxial dan menumbuhkan perkembangan seragam lapisan epitaxial.

1. Fiksasi Wafer dan penyelarasan yang tepatPemegang Epi Wafer yang direkayasa tinggi dengan kuat memposisikan wafer di pusat geometris ruang reaksi. Penempatan ini menjamin bahwa permukaan wafer membentuk sudut kontak yang ideal dengan aliran gas reaksi. Penyelarasan yang tepat tidak hanya penting untuk mencapai deposisi lapisan epitaxial yang seragam tetapi juga secara signifikan mengurangi konsentrasi tegangan yang dihasilkan dari penyimpangan posisi wafer.

2. Pemanasan Uniform dan Kontrol Lapangan TermalMemanfaatkan konduktivitas termal yang sangat baik dari bahan SiC, pemegang wafer EPI memungkinkan perpindahan panas yang efisien ke wafer di lingkungan epitaxial suhu tinggi. Secara bersamaan, ia menjalankan kontrol halus atas distribusi suhu sistem pemanas. Mekanisme ganda ini memastikan suhu yang konsisten di seluruh permukaan wafer, secara efektif menghilangkan tegangan termal yang disebabkan oleh gradien suhu yang berlebihan. Akibatnya, kemungkinan cacat seperti wafer warping dan retakan sangat diminimalkan.

3. Kontrol kontaminasi partikel dan kemurnian materialPenggunaan Substrat SIC Tinggi dan Bahan Grafit yang Dilapisi CVD adalah game -changer dalam kontrol kontaminasi partikel. Bahan -bahan ini secara substansial mengurangi generasi dan difusi partikel selama proses epitaxy, memberikan lingkungan yang murni untuk pertumbuhan lapisan epitaxial. Dengan mengurangi cacat antarmuka, mereka meningkatkan kualitas dan keandalan lapisan epitaxial.

4. Resistensi KorosiSelamaMOCVDatau proses LPCVD, pemegang wafer EPI harus menanggung gas korosif seperti amonia dan trimetil gallium. Resistensi korosi yang luar biasa dari bahan SIC memungkinkan pemegang memiliki masa pakai yang diperpanjang, sehingga menjamin keandalan seluruh proses produksi.

Layanan Kustomisasi oleh Vetek Semiconductor

Vetek Semiconductor berkomitmen untuk memenuhi kebutuhan pelanggan yang beragam. Kami menawarkan layanan pemegang wafer epi khusus yang disesuaikan dengan berbagai ukuran wafer, termasuk 100mm, 150mm, 200mm, 300mm, dan seterusnya. Tim ahli kami berdedikasi untuk memberikan produk berkualitas tinggi yang sesuai dengan kebutuhan Anda. Kami dengan tulus berharap untuk menjadi mitra jangka panjang Anda di China, memberi Anda solusi semikonduktor terbaik.

Data SEM Struktur Kristal Film CVD SiC:

Sifat fisik dasar pelapisan cvd sic：

Perbandingan Toko Produksi Pemegang Wafer Epiconductor: