Produk

Kerentanan wafer yang dilapisi CVD SIC Veteksemicon adalah solusi mutakhir untuk proses epitaxial semikonduktor, menawarkan kemurnian ultra-tinggi (≤100ppb, ICP-E10 bersertifikat) dan stabilitas termal/kimia yang luar biasa untuk pertumbuhan gan, SIC, dan SIC yang luar biasa. Direkayasa dengan teknologi CVD presisi, mendukung wafer 6 "/8"/12 ", memastikan tegangan termal minimal, dan menahan suhu ekstrem hingga 1600 ° C.

Kerentanan planet yang dilapisi SIC kami adalah komponen inti dalam proses suhu tinggi manufaktur semikonduktor. Desainnya menggabungkan substrat grafit dengan lapisan silikon karbida untuk mencapai optimalisasi komprehensif kinerja manajemen termal, stabilitas kimia dan kekuatan mekanik.

Pelat keramik SIC berpori kami adalah bahan keramik berpori yang terbuat dari silikon karbida sebagai komponen utama dan diproses oleh proses khusus. Mereka adalah bahan yang sangat diperlukan dalam manufaktur semikonduktor, deposisi uap kimia (CVD) dan proses lainnya.

Cincin penyegelan yang dilapisi SIC kami untuk epitaxy adalah komponen penyegelan berkinerja tinggi berdasarkan grafit atau komposit karbon-karbon yang dilapisi dengan silikon karbida dengan kemurnian tinggi (sic) dengan deposisi uap kimia (CVD), yang menggabungkan stabilitas termal grafit dengan resistansi lingkungan ekstrem dari SIC, dan dirancang untuk semikon.

Kapal kuarsa kemurnian tinggi kami terbuat dari kuarsa yang menyatu (konten SiO₂ ≥ 99,99%). Dengan ketahanannya yang sangat baik terhadap lingkungan yang ekstrem, koefisien ekspansi termal yang rendah, dan siklus hidup yang panjang, itu telah menjadi kunci konsumsi kunci yang tak tergantikan di semikonduktor dan industri energi baru.

Fokus cincin untuk etsa adalah komponen kunci untuk memastikan akurasi dan stabilitas proses. Komponen -komponen ini secara tepat dirakit dalam ruang vakum untuk mencapai pemesinan seragam struktur skala nano pada permukaan wafer melalui kontrol yang tepat dari distribusi plasma, suhu tepi dan keseragaman medan listrik.