Lapisan Silikon Karbida

Sebagai produsen pelapis silikon karbida dan tantalum karbida dalam negeri terkemuka, VeTek Semiconductor mampu menyediakan pemesinan presisi dan pelapisan seragam dari SiC Coated Epi Susceptor, yang secara efektif mengontrol kemurnian lapisan dan produk di bawah 5ppm. Masa pakai produk sebanding dengan SGL. Selamat datang untuk menanyakan kami.

Kerentanan datar dan kerentanan barel adalah bentuk utama dari kerentanan EPI. Vetek Semiconductor adalah produsen dan inovator rentan dan inovator LPE EPI terkemuka. Kami telah berspesialisasi dalam pelapisan SIC dan pelapisan TAC selama bertahun -tahun. Kami menawarkan LPE SI EPI SMI SUPCECTOR SIC dan TAC Set yang dirancang khusus untuk wafer LPE PE2061S 4 ". Tingkat pencocokan bahan grafit dan lapisan SiC bagus, keseragamannya sangat baik, dan kehidupannya panjang, yang dapat meningkatkan hasil pertumbuhan lapisan epitaxial selama LPE (epitaxy fase cair) Proses. Kami menyambut Anda untuk mengunjungi pabrik kami di Cina.

Sistem MOCVD Aixtron G5 terdiri dari bahan grafit, grafit yang dilapisi silikon karbida, kuarsa, bahan felt kaku, dll. Semikonduktor Vetek dapat menyesuaikan dan memproduksi seluruh rangkaian komponen untuk sistem ini. Kami telah berspesialisasi dalam bagian grafit semikonduktor dan kuarsa kuarsa selama bertahun -tahun. Kit kerentanan MoCVD Aixtron G5 ini adalah solusi yang serba guna dan efisien untuk manufaktur semikonduktor dengan ukuran optimal, kompatibilitas, dan produktivitas tinggi. Dukeskan untuk menyelidiki AS.

Basis pemanas wafer epitaxial tipe barel adalah produk dengan teknologi pemrosesan yang rumit, yang sangat menantang untuk peralatan dan kemampuan pemesinan. Vetek Semiconductor memiliki peralatan canggih dan pengalaman yang kaya dalam memproses kerentanan barel grafit yang dilapisi SIC untuk EPI, dapat memberikan hal yang sama dengan kehidupan pabrik asli, barel epitaxial yang lebih hemat biaya. Jika Anda tertarik dengan data kami, jangan ragu untuk menghubungi kami.

Deflektor crucible grafit yang dilapisi sic adalah komponen kunci dalam peralatan tungku kristal tunggal, tugasnya adalah memandu bahan cair dari wadah ke zona pertumbuhan kristal dengan lancar, dan memastikan kualitas dan bentuk pertumbuhan kristal tunggal. Semikonduktor vetek dapat Memberikan bahan pelapis grafit dan sic. Diskusi untuk menghubungi kami untuk lebih jelasnya.

MOCVD EPITAXIAL SUMPECTOR UNTUK 4 "WAFER dirancang untuk menumbuhkan lapisan epitaxial 4". Vetek Semiconductor adalah produsen dan pemasok profesional, yang didedikasikan untuk menyediakan kerentanan epitaxial MOCVD berkualitas tinggi untuk 4 "wafer. Dengan bahan grafit yang dirancang khusus dan proses pelapisan SIC. Kami dapat memberikan solusi ahli dan efisien kepada klien kami. Anda dipersilakan untuk berkomunikasi dengan kami.