Dukungan Lapisan Tantalum Carbide

Fungsi utama semikonduktor vetekTantalum carbide (TAC) CoatingDukungan adalah untuk meningkatkanketahanan panas, ketahanan aus dan resistensi korosidari substrat dengan melapisi lapisan lapisan tantalum carbide, sehingga dapat meningkatkan keakuratan dan keandalan proses dan memperluas umur layanan komponen. Ini adalah produk pelapis kinerja tinggi yang digunakan di bidang pemrosesan semikonduktor.

Suppor pelapis Tantalum Carbide Vetek Semiconductor memiliki kekerasan Mohs hampir 9 ~ 10, kedua setelah berlian. Ini memiliki ketahanan aus yang sangat kuat dan dapat secara efektif menahan keausan permukaan dan dampak selama pemrosesan, sehingga secara efektif memperluas masa pakai komponen peralatan. Dikombinasikan dengan titik leleh yang tinggi sekitar 3880 ° C, sering digunakan untuk melapisi komponen kunci peralatan semikonduktor, seperti pelapisan permukaan struktur pendukung, peralatan perlakuan panas, ruang atau gasket dalam peralatan semikonduktor untuk meningkatkan ketahanan aus dan ketahanan suhu tinggi.

Karena titik leleh yang sangat tinggi dari tantalum carbide sekitar 3880 ° C, dalam proses pemrosesan semikonduktor sepertiDeposisi Uap Kimia (CVD)DanDeposisi Uap Fisik (PVD), Pelapisan TAC dengan ketahanan suhu tinggi yang kuat dan resistensi korosi kimia dapat secara efektif melindungi komponen peralatan dan mencegah korosi atau kerusakan pada substrat di lingkungan yang ekstrem, memberikan perlindungan yang efektif untuk lingkungan suhu tinggi dalam manufaktur wafer. Fitur ini juga menentukan bahwa dukungan pelapisan Tantalum Carbide Vetek Semiconductor sering digunakan dalam proses etsa dan korosif.

Dukungan pelapisan tantalum karbida juga memiliki fungsi pengurangan kontaminasi partikel. Selama pemrosesan wafer, keausan permukaan biasanya menghasilkan kontaminasi partikulat, yang mempengaruhi kualitas produk wafer. Karakteristik produk ekstrem TAC Coating mendekati 9-10 kekerasan MOHS dapat secara efektif mengurangi keausan ini, sehingga mengurangi generasi partikel. Dikombinasikan dengan konduktivitas termal TAC Coating yang sangat baik (sekitar 21 W/m · k), ia dapat mempertahankan konduktivitas termal yang baik dalam kondisi suhu tinggi, sehingga sangat meningkatkan hasil dan konsistensi manufaktur wafer.

Produk pelapis TAC utama Vetek Semiconductor meliputiPemanas pelapis TAC, CVD TAC Coating Crucible, TAC Coating Rotation RumceptorDanBagian Cadangan Pelapis TAC, dll., dan mendukung layanan produk yang disesuaikan. Vetek Semiconductor berkomitmen untuk menyediakan produk dan solusi teknis yang sangat baik untuk industri semikonduktor. Kami dengan tulus berharap menjadi mitra jangka panjang Anda di Cina.

Tantalum carbide (TAC) Lapisan pada penampang mikroskopis:

Sifat fisik dasar pelapisan CVD TAC：