Elemen pemanas cvd sic coating

Elemen pemanas pelapisan CVD SIC terutama digunakan dalam peralatan PVD (Deposisi Uap Fisik). Dalam proses penguapan, bahan dipanaskan untuk mencapai penguapan atau sputtering, dan akhirnya film tipis yang seragam terbentuk pada substrat.

Ⅰ.Aplikasi spesifik

Deposisi Film Tipis: Elemen pemanas pelapisan CVD SIC digunakan dalam sumber penguapan atau sumber sputtering. Dengan memanaskan, elemen memanaskan bahan yang akan diendapkan ke suhu tinggi, sehingga atom atau molekulnya dipisahkan dari permukaan material, sehingga membentuk uap atau plasma. Lapisan SIC berbasis elemen pemanas kami juga dapat secara langsung memanaskan beberapa bahan logam atau keramik untuk menguap atau mensublimasikannya di lingkungan vakum untuk digunakan sebagai sumber material dalam proses PVD. Karena struktur memiliki alur konsentris, ia dapat lebih baik mengontrol jalur saat ini dan distribusi panas untuk memastikan keseragaman pemanasan.

Diagram skematik dari proses PVD penguapan

Ⅱ.Prinsip kerja

Pemanasan resistif, ketika arus melewati jalur resistensi pemanas yang dilapisi SIC, panas joule dihasilkan, sehingga mencapai efek pemanasan. Struktur konsentris memungkinkan arus didistribusikan secara merata. Perangkat kontrol suhu biasanya terhubung ke elemen untuk memantau dan menyesuaikan suhu.

Ⅲ.Desain material dan struktural

Elemen pemanas pelapisan CVD SIC terbuat dari grafit dengan kemurnian tinggi dan lapisan SiC untuk mengatasi lingkungan suhu tinggi. Grafit dengan kemurnian tinggi itu sendiri telah banyak digunakan sebagai bahan medan termal. Setelah lapisan lapisan diterapkan pada permukaan grafit dengan metode CVD, stabilitas suhu tinggi, resistansi korosi, efisiensi termal dan karakteristik lainnya semakin ditingkatkan.

Desain alur konsentris memungkinkan arus membentuk loop yang seragam pada permukaan disk. Ini mencapai distribusi panas yang seragam, menghindari overheating lokal yang disebabkan oleh konsentrasi di daerah tertentu, mengurangi kehilangan panas tambahan yang disebabkan oleh konsentrasi saat ini, dan dengan demikian meningkatkan efisiensi pemanasan.

Elemen pemanas pelapisan CVD SIC terdiri dari dua kaki dan tubuh. Setiap kaki memiliki utas yang terhubung ke catu daya. Vetek Semiconductor dapat membuat bagian satu bagian atau bagian terbelah, yaitu, kaki dan tubuh dibuat secara terpisah dan kemudian dirakit. Tidak peduli persyaratan apa yang Anda miliki untuk pemanas yang dilapisi CVD SIC, silakan berkonsultasi dengan kami. Veteksemi dapat menyediakan produk yang Anda butuhkan.

Sifat fisik dasar pelapisan cvd sic: