Apa itu perahu grafit PECVD?

Ⅰ. Apa bahan perahu grafit PECVD?

Bahan inti dariPerahu grafit PECVD(Plasma Peningkatan Kimia Deposisi Uap Grafit Perahu) terbuat dari kemurnian tinggiBahan grafit isotropik(Kemurnian biasanya ≥99,999%), dan dimodifikasi oleh proses khusus (seperti deposisi uap kimia CVD atau lapisan permukaan). Grafit dengan kemurnian tinggi banyak digunakan dalam sistem PECVD karena konduktivitas listriknya yang sangat baik dan konduktivitas termal yang tinggi (80 ~ 150 W/M · K). IniBahan grafit dengan kemurnian tinggiDapat menjaga stabilitas struktural yang baik dan stabilitas kimia di lingkungan suhu tinggi, dan dapat menahan korosi dari gas reaktif dan plasma.

Ⅱ. Apa sifat fisik perahu grafit?

Sifat fisik kapal grafit PECVD meliputi:

● Konduktivitas Listrik: Grafit isostatik memiliki konduktivitas listrik yang sangat baik, yang memungkinkannya untuk mengelola energi listrik secara efektif dan mempromosikan pembangkit dan pemeliharaan plasma selama proses PECVD.

●  Konduktivitas termal: Konduktivitas termal tinggi grafit (sekitar 80 ~ 150 W/m · k) membantu mempertahankan lingkungan suhu yang stabil selama proses PECVD dan memastikan pengendapan yang seragam dari film tipis.

●  Kepadatan: Kepadatan grafit polikristalin komersial berkisar dari 1,30 g/cm³ hingga 1,88 g/cm³. Semakin tinggi kepadatan, semakin baik sifat fisik dan mekanik, yang dapat meningkatkan masa pakai produk.

Ⅲ. Apa keuntungan dari perahu grafit PECVD dibandingkan dengan perahu grafit biasa?

Dibandingkan dengan kapal grafit biasa, perahu grafit PECVD memiliki keunggulan berikut:

Ⅳ. Mengapa Memilih Perahu Grafit PECVD Veteksemicon?

Seperti yang kita semua tahu, Veteksemicon adalah produsen dan pemasok produk pelapis semikonduktor terkemukaProduk grafitdi Cina. KitaPerahu grafit PECVDterutama digunakan dalam industri semikonduktor dan fotovoltaik, terutama dalam proses PECVD dan CVD.

Kapal grafit biasanya digunakan sebagai pembawa untuk membawa wafer silikon atau bahan lainnya untuk memastikan penanganan yang aman dan transportasi bahan -bahan ini dalam lingkungan suhu tinggi dan plasma. Misalnya, dalam proses pembuatan semikonduktor, kapal grafit PECVD Veteksemicon dirancang untuk proses deposisi uap kimia yang ditingkatkan plasma. Kapal grafit memainkan peran dalam menyimpan lapisan pasif silikon nitrida (sinₓ) dan film konstanta dielektrik rendah (Low-K).

Di bidang fotovoltaik, perahu grafit PECVD digunakan untuk menyiapkan sel surya film tipis berbasis silikon (seperti silikon amorf A-Si: H) dan lapisan pasif punggung sel Perc. Kapal grafit PECVD Veteksemicon mengoptimalkan proses pelapisan dengan secara efektif jarak wafer silikon dan menginduksi debit cahaya untuk mencapai deposisi pelapisan yang seragam.

Lebih penting lagi, Veteksemicon dapat menyediakan produk dan layanan teknis yang disesuaikan, dan dapat merancang dan memproduksi produk perahu grafit dengan spesifikasi yang berbeda sesuai dengan persyaratan proses Anda yang sebenarnya. Memilih Veteksemicon berarti memilih pemimpin industri dengan kekuatan kuat dalam industri semikonduktor dan fotovoltaik. Kami dengan tulus berharap untuk menjadi mitra jangka panjang Anda.