Silikon Karbida Padat

VeTek Semiconductor Solid Silicon Carbide adalah komponen keramik penting dalam peralatan etsa plasma, silikon karbida padat(silikon karbida CVD) bagian-bagian dalam peralatan etsa meliputicincin pemfokusan, pancuran gas, baki, cincin tepi, dll. Karena rendahnya reaktivitas dan konduktivitas silikon karbida padat (silikon karbida CVD) terhadap gas etsa yang mengandung klorin dan fluor, ini adalah bahan yang ideal untuk cincin pemfokusan peralatan etsa plasma dan lainnya komponen.

Misalnya, cincin fokus adalah bagian penting yang ditempatkan di luar wafer dan bersentuhan langsung dengan wafer, dengan memberikan tegangan pada cincin untuk memfokuskan plasma yang melewati cincin, sehingga memfokuskan plasma pada wafer untuk meningkatkan keseragaman. pengolahan. Cincin fokus tradisional terbuat dari silikon ataukuarsa, silikon konduktif sebagai bahan cincin fokus yang umum, hampir mendekati konduktivitas wafer silikon, namun kekurangannya adalah ketahanan etsa yang buruk pada plasma yang mengandung fluor, bahan bagian mesin etsa yang sering digunakan untuk jangka waktu tertentu, akan ada masalah serius fenomena korosi, secara serius mengurangi efisiensi produksinya.

SCincin Fokus SiC olidPrinsip Kerja：

Perbandingan Cincin Fokus Berbasis Si dan Cincin Fokus SiC CVD：