Menu Web

Pencarian Produk

Bahasa

Produk

Lapisan Tantalum Karbida

Semikonduktor VeTek adalah produsen terkemuka bahan Pelapis Tantalum Karbida untuk industri semikonduktor. Penawaran produk utama kami meliputi komponen pelapis tantalum karbida CVD, komponen pelapis TaC sinter untuk pertumbuhan kristal SiC, atau proses epitaksi semikonduktor. Lulus ISO9001, VeTek Semiconductor memiliki kontrol kualitas yang baik. VeTek Semiconductor berdedikasi untuk menjadi inovator dalam industri Pelapisan Tantalum Karbida melalui penelitian berkelanjutan dan pengembangan teknologi berulang.


Produk utamanya adalahCincin Panduan Dilapisi TaC, Cincin pemandu tiga kelopak berlapis CVD TaC, Halfmoon Dilapisi Tantalum Karbida TaC, Suseptor epitaksi planetary SiC yang dilapisi CVD TaC, Cincin Pelapis Tantalum Karbida, Grafit Berpori Dilapisi Tantalum Karbida, Suseptor Rotasi Lapisan TaC, Cincin Tantalum Karbida, Pelat Rotasi Lapisan TaC, Suseptor wafer berlapis TaC, Cincin Deflektor Dilapisi TaC, Penutup Lapisan CVD TaC, Chuck Dilapisi TaCdll., kemurniannya di bawah 5ppm, dapat memenuhi kebutuhan pelanggan.


Grafit pelapis TaC dibuat dengan melapisi permukaan substrat grafit dengan kemurnian tinggi dengan lapisan halus tantalum karbida melalui proses Deposisi Uap Kimia (CVD) yang dipatenkan. Keuntungannya ditunjukkan pada gambar di bawah ini:


Excellent properties of TaC coating graphite


Lapisan tantalum karbida (TaC) telah mendapat perhatian karena titik lelehnya yang tinggi hingga 3880°C, kekuatan mekanik yang sangat baik, kekerasan, dan ketahanan terhadap guncangan termal, menjadikannya alternatif yang menarik untuk proses epitaksi semikonduktor majemuk dengan persyaratan suhu lebih tinggi, seperti sistem Aixtron MOCVD dan proses epitaksi LPE SiC. Ini juga memiliki aplikasi luas dalam proses pertumbuhan kristal SiC metode PVT.


Fitur Utama:

 ●Stabilitas suhu

 ●Kemurnian sangat tinggi

 ●Ketahanan terhadap H2, NH3, SiH4,Si

 ●Ketahanan terhadap stok termal

 ●Daya rekat kuat pada grafit

 ●Cakupan lapisan konformal

 ● Ukuran diameter hingga 750 mm (Satu-satunya pabrikan di China yang mencapai ukuran ini)


Aplikasi:

 ●Pembawa wafer

 ● Penerima pemanasan induktif

 ● Elemen pemanas resistif

 ●Disk satelit

 ●Kepala pancuran

 ●Cincin panduan

 ●Penerima Epi LED

 ●Nozel injeksi

 ●Cincin penyamaran

 ● Pelindung panas


Lapisan Tantalum karbida (TaC) pada penampang mikroskopis:


the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


Parameter Lapisan Tantalum Karbida Semikonduktor VeTek:

Sifat fisik lapisan TaC
Kepadatan 14,3 (g/cm³)
Emisivitas spesifik 0.3
Koefisien ekspansi termal 6.3 10-6/K
Kekerasan (HK) 2000HK
Perlawanan 1×10-5Ohm*cm
Stabilitas termal <2500℃
Perubahan ukuran grafit -10~-20um
Ketebalan lapisan Nilai tipikal ≥20um (35um±10um)


Data EDX pelapisan TaC：

EDX data of TaC coating


Data struktur kristal pelapis TaC:

Elemen Persen atom
Pt. 1 Pt. 2 Pt. 3 Rata-rata
CK 52.10 57.41 52.37 53.96
Mereka 47.90 42.59 47.63 46.04


View as  
 
Tabung Pelapis TaC

Tabung Pelapis TaC

Tabung pelapis TaC VeTek Semiconductor adalah komponen kunci untuk keberhasilan pertumbuhan kristal tunggal silikon karbida. Dengan ketahanan suhu tinggi, kelembaman kimia, dan kinerja luar biasa, yang menjamin produksi kristal berkualitas tinggi dengan hasil yang konsisten. Percayai solusi inovatif kami untuk meningkatkan proses pertumbuhan kristal SiC metode PVT Anda dan mencapai hasil yang luar biasa. Selamat datang untuk bertanya kepada kami.
Lihat Lebih Banyak >> mengirimkan permintaan >>
Bagian Cadangan Pelapis TAC

Bagian Cadangan Pelapis TAC

Lapisan TAC saat ini terutama digunakan dalam proses seperti pertumbuhan kristal tunggal silikon karbida (metode PVT), disk epitaxial (termasuk epitaxy silikon karbida, epitaxy LED), dll. Dikombinasikan dengan stabilitas jangka panjang pelat pelapis TAC yang baik. Kami berharap Anda menjadi mitra jangka panjang kami.
Lihat Lebih Banyak >> mengirimkan permintaan >>
Gan pada penerima EPI

Gan pada penerima EPI

GAN pada rangsangan EPI SIC memainkan peran penting dalam pemrosesan semikonduktor melalui konduktivitas termal yang sangat baik, kemampuan pemrosesan suhu tinggi dan stabilitas kimia, dan memastikan efisiensi tinggi dan kualitas material dari proses pertumbuhan epitaxial GAN. Vetek Semiconductor adalah produsen Profesional GAN ​​di China di SIC EPI RMOSCECTOR, kami dengan tulus menantikan konsultasi lebih lanjut Anda.
Lihat Lebih Banyak >> mengirimkan permintaan >>
Pembawa Coating CVD TAC

Pembawa Coating CVD TAC

CVD TAC Coating Carrier terutama dirancang untuk proses epitaxial dari manufaktur semikonduktor. Titik lebur ultra-tinggi CVD TAC CVD, resistensi korosi yang sangat baik, dan stabilitas termal yang luar biasa menentukan ketidaksetujuan produk ini dalam proses epitaxial semikonduktor. Selamat datang pertanyaan Anda lebih lanjut.
Lihat Lebih Banyak >> mengirimkan permintaan >>
Dukungan Grafit TAC

Dukungan Grafit TAC

Kerentanan grafit TAC Vetek Semiconductor menggunakan metode uap kimia (CVD) untuk menyiapkan lapisan tantalum karbida pada permukaan bagian grafit. Proses ini adalah yang paling matang dan memiliki sifat pelapis terbaik. Kerentanan grafit yang dilapisi TAC dapat memperpanjang masa pakai komponen grafit, menghambat migrasi kotoran grafit, dan memastikan kualitas epitaxy. Kami menantikan pertanyaan Anda.
Lihat Lebih Banyak >> mengirimkan permintaan >>
TAC Coating Subser

TAC Coating Subser

Vetek Semiconductor menyajikan kerentanan pelapisan TAC, dengan pelapisan TAC yang luar biasa, kerentanan ini menawarkan banyak keunggulan yang membedakannya dari solusi konvensional. Mengintegrasikan dengan mulus ke dalam sistem yang ada, rentan pelapisan TAC dari Vetek Semiconductor yang menjamin kompatibilitas dan operasi yang efisien. Kinerja yang andal dan pelapisan TAC berkualitas tinggi secara konsisten memberikan hasil luar biasa dalam proses epitaxy SiC. Kami berkomitmen untuk menyediakan produk berkualitas dengan harga kompetitif dan berharap untuk menjadi mitra jangka panjang Anda di Cina.
Lihat Lebih Banyak >> mengirimkan permintaan >>
Sebagai produsen dan pemasok profesional Lapisan Tantalum Karbida di Cina, kami memiliki pabrik kami sendiri. Apakah Anda memerlukan layanan khusus untuk memenuhi kebutuhan spesifik wilayah Anda atau ingin membeli Lapisan Tantalum Karbida lanjutan dan tahan lama yang dibuat di Cina, Anda dapat meninggalkan pesan kepada kami.
Rekomendasi Berita
Inovasi Teknologi CVD Di Balik Hadiah Nobel
Inovasi Teknologi CVD Di Balik Hadiah NobelLihat Lebih Banyak >>
Penjelasan lengkap tentang proses pembuatan chip (1/2): Dari wafer hingga pengemasan dan pengujian
Penjelasan lengkap tentang proses pembuatan chip (1/2): Dari wafer hingga pengemasan dan pengujianLihat Lebih Banyak >>
Apa itu keramik silikon karbida?
Apa itu keramik silikon karbida?Lihat Lebih Banyak >>
Pelanggan Selamat Datang untuk Mengunjungi Factory Proses Lapisan/ TAC Coating dan Epitaxy Proses Veteksemicon
Pelanggan Selamat Datang untuk Mengunjungi Factory Proses Lapisan/ TAC Coating dan Epitaxy Proses VeteksemiconLihat Lebih Banyak >>
Prinsip dan Teknologi Deposisi Uap Fisik (PVD) Coating (2/2) - Vetek Semiconductor
Prinsip dan Teknologi Deposisi Uap Fisik (PVD) Coating (2/2) - Vetek SemiconductorLihat Lebih Banyak >>
Apa itu pertumbuhan epitaxial yang dikendalikan langkah？
Apa itu pertumbuhan epitaxial yang dikendalikan langkah？Lihat Lebih Banyak >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept